[发明专利]阻变存储器有效

专利信息
申请号: 201310444816.9 申请日: 2013-09-23
公开(公告)号: CN103680604B 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: M·A·范布斯科克 申请(专利权)人: ADESTO技术公司
主分类号: G11C11/56 分类号: G11C11/56
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 张欣
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 存储器
【说明书】:

发明公开了一种阻变存储器。在本发明的一个实施例中,存储单元包括具有第一端子和第二端子的第一阻变元件、和具有第一端子和第二端子的第二阻变元件。该存储器还包括三端子晶体管,其具有第一端子、第二端子、和第三端子。三端子晶体管的第一端子耦合至第一阻变元件的第一端子。三端子晶体管的第二端子耦合至第二阻变元件的第一端子。三端子晶体管的第三端子耦合至字线。

技术领域

本发明一般地涉及存储设备,且更特定地涉及阻变存储器。

背景技术

半导体产业依赖于器件按比例缩小来以更低的成本传递改进的性能。在当今市场上,闪存是主流非易失性存储器。然而,闪存具有一些限制,对于存储器技术的持续性发展提出了显著威胁。因此,该产业正在开发备选的存储器来替代闪存。未来存储器技术的竞争者包括磁性存储随机存取存储器(MRAM)、铁电RAM(FeRAM)、以及阻变存储器,诸如相变RAM(PCRAM)、金属氧化物基存储器、以及可编程金属化单元(PMC)或离子存储器。这些存储器也被称为即将出现的存储器。

为了切实可行,在诸如可量测性、性能、能效、导通/截止比、操作温度、CMOS兼容性、和可靠性之类的多于一个的技术度量方面,即将出现的存储器必须优于闪存。

存储器设计的各种挑战之一涉及单元界限。例如,开关元件,在第一状态和第二状态之间开关,必须在两个状态之间维持充分差异以使随后的读操作可辨别两者。如果两个状态之间的差异小于读取过程的敏感度,则存储单元可能丢失所存储的数据。

发明内容

根据本发明的一实施例,存储单元包括具有第一端子和第二端子的第一阻变元件、具有第一端子和第二端子的第二阻变元件、以及三端子晶体管。该三端子晶体管具有第一端子、第二端子、和第三端子。三端子晶体管的第一端子耦合至第一阻变元件的第一端子。三端子晶体管的第二端子耦合至第二阻变元件的第一端子。三端子晶体管的第三端子耦合至字线。

根据本发明的可选实施例,存储单元包括具有阴极端子和阳极端子的第一阻变元件,以及具有阴极端子和阳极端子的第二阻变元件。该存储单元还包括具有第一发射极/集电极、第二发射机/集电极、和基极的双极晶体管。该第一发射极/集电极耦合至第一阻变元件的阴极端子。该第二发射极/集电极耦合至第二阻变元件的阴极端子。基极耦合至字线。第一阻变元件的阴极端子耦合至位线对的第一位线。第二阻变元件的阳极端子耦合至该位线对的第二位线。存储单元配置为存储第一或第二存储器状态。

根据本发明的可选实施例,存储单元包括具有第一端子和第二端子的第一阻变元件、和具有第一端子和第二端子的第二阻变元件。该存储单元还包括具有第一源极/漏极和第二源极/漏极的晶体管。该第一源极/漏极耦合至第一阻变元件的第一端子,且该第二源极/漏极耦合至第二阻变元件的第一端子。

附图说明

为更透彻理解本发明及其优点,现参考连同附图进行的以下描述,其中:

图1示出根据本发明一实施例的差分存储单元阵列的示意性电路;

图2,包括图2A-2D,示出根据本发明一实施例的差分存储单元阵列的结构性实现,其中图2A示出俯视图而图2B和2C示出截面图且图2D示出在一个实施例中的阻变元件的放大图;

图3,包括图3A-3E,示出根据本发明各实施例的存储单元阵列的操作,其中图3A示出激活存储单元,其中图3B示出根据本发明一实施例的在写操作期间存储单元阵列的存储单元,其中图3C示出根据本发明一实施例的包括寄生效应的存储单元的操作,其中图3D示出根据本发明各实施例的存储单元的操作状态,且其中图3E示出根据本发明一实施例的在读操作期间存储单元阵列的存储单元;

图4,包括图4A-4E,示出根据本发明一可选实施例的存储单元阵列,其中图4B-4E示出根据本发明各实施例的图4A中所示的存储单元的结构性实现,其中图4B示出俯视图,其中图4C和4D示出截面图,而图4E示出阻变元件的放大的截面图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ADESTO技术公司,未经ADESTO技术公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310444816.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top