[发明专利]液体喷墨头的制造方法、液体喷墨头和打印设备有效
申请号: | 201310432859.5 | 申请日: | 2013-09-22 |
公开(公告)号: | CN104441995A | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
发明(设计)人: | 李越 | 申请(专利权)人: | 珠海纳思达企业管理有限公司 |
主分类号: | B41J2/16 | 分类号: | B41J2/16 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 毕强 |
地址: | 519075 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液体 喷墨 制造 方法 打印 设备 | ||
技术领域
本发明涉及打印机制造技术,尤其涉及一种液体喷墨头的制造方法、液体喷墨头和打印设备。
背景技术
打印机是一种常用的办公设备,随着打印机技术的逐渐进步,文件处理速度以及打印速度越来越受到重视。现有技术中,打印机的液体喷墨头结构通常包括由硅材料制成的基底、粘接在基底第一表面上的喷孔板、以及设置在基底上与第一表面相对的第二表面的振动板和压电元件。液体喷墨头的加工方法通常为:在基底的第二表面上形成振动板和压电元件,在第一表面上采用蚀刻工艺形成多个与压电元件位置相对应的压力腔室,以及与供墨孔相对应的公共腔室,该压力腔室和公共腔室用于存储液体,最后粘接喷孔板。
但是,由于现有的液体喷墨头中公共腔室的侧壁形成为垂直于基底的第二表面,因此不利于液体墨水的填充,当喷墨头产生振动时,容易导致液体墨水回流到供墨孔而影响打印速度。并且,对于现有的液体喷墨头而言,为了提高打印分辨率,需要增加压力腔室的数量,在相同表面面积的硅基底上蚀刻压力腔室,必然要减小压力腔室壁的厚度,因此会导致基底的机械强度下降,在加工过程中会出现基底破损而降低成品率,增加制造成本。另外,现有的液体喷墨头的喷孔板是采用粘合剂粘接在压力腔室表面,对粘接工艺的要求非常高,一旦有粘合剂流入压力腔室中,会影响打印质量。
发明内容
本发明提供一种液体喷墨头的制造方法、液体喷墨头和打印设备,用于解决现有的液体喷墨头容易导致液体墨水回流到供墨孔而影响打印速度的问题,还能避免采用粘合剂导致的打印质量降低的问题,且能够提高压力腔室的机械强度。
本发明实施例提供一种液体喷墨头的制造方法,包括:
在基底上形成压力发生部件;
在所述基底的第一表面上涂覆树脂胶,形成第一胶层;
对所述第一胶层中的第一区域进行灰度曝光处理,形成梯形状的公共腔室,所述梯形状的公共腔室中靠近所述基底的表面面积小于远离所述基底的表面面积;
对所述第一胶层中的第二区域进行曝光处理,形成压力腔室;
在所述压力腔室和梯形状的公共腔室远离所述基底的表面上形成喷孔板;
在所述基底中与所述第一表面相对的第二表面上与所述公共腔室对应的位置处形成通透的供墨孔。
本发明实施例还提供一种液体喷墨头,所述液体喷墨头采用如上所述的液体喷墨头的制造方法制成。
本发明实施例还提供一种打印设备,包括如上所述的液体喷墨头。
本发明实施例通过依次在基底上形成压力发生部件,在基底上形成压力腔室和梯形状的公共腔室,其中,梯形状的公共腔室靠近基底的表面面积小于远离基底的表面面积,之后分别形成喷孔板和供墨孔,能够解决现有的液体喷墨头容易导致液体墨水从公共腔室回流到供墨孔的问题,提高了打印速度和打印质量。
本发明实施例提供的技术方案可形成一体成型的喷墨头,并采用正性光敏树脂形成压力腔室壁,能根据打印分辨率的需要增加压力腔室的数量,而不会产生压力腔室壁和基底机械强度下降的问题。一体成型的结构也避免了使用粘合剂而影响打印效果的问题。
另外,本发明实施例的技术方案中还提供了一种形成锥形喷孔的技术方案,能够提高喷射的精度,使墨滴准确滴落在打印介质上的预定位置,进而提高打印速度和打印精度。
附图说明
图1为本发明实施例一提供的液体喷墨头的制造方法的流程图;
图2为本发明实施例一提供的液体喷墨头的制造方法中压力发生部件形成方法的流程图;
图3A为本发明实施例一提供的液体喷墨头的制造方法中在基底上蚀刻形成凹槽的结构示意图;
图3B为本发明实施例一提供的液体喷墨头的制造方法中在基底上形成压电元件的结构示意图;
图3C为本发明实施例一提供的液体喷墨头的制造方法中在压电元件上形成振动板的结构示意图;
图4A为本发明实施例一提供的液体喷墨头的制造方法中在基底上形成第一胶层的结构示意图;
图4B为本发明实施例一提供的液体喷墨头的制造方法中对第一胶层的第一区域进行曝光处理的结构示意图;
图4C为本发明实施例一提供的液体喷墨头的制造方法中对第一胶层进行显影处理形成公共腔室的结构示意图;
图4D为本发明实施例一提供的液体喷墨头的制造方法中对第一胶层的第二区域进行曝光处理的结构示意图;
图4E为本发明实施例一提供的液体喷墨头的制造方法中对第一胶层进行显影处理形成压力腔室的结构示意图;
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