[发明专利]液体喷墨头的制造方法、液体喷墨头和打印设备有效

专利信息
申请号: 201310432859.5 申请日: 2013-09-22
公开(公告)号: CN104441995A 公开(公告)日: 2015-03-25
发明(设计)人: 李越 申请(专利权)人: 珠海纳思达企业管理有限公司
主分类号: B41J2/16 分类号: B41J2/16
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 毕强
地址: 519075 广*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 液体 喷墨 制造 方法 打印 设备
【权利要求书】:

1.一种液体喷墨头的制造方法,其特征在于,包括:

在基底上形成压力发生部件;

在所述基底的第一表面上涂覆树脂胶,形成第一胶层;

对所述第一胶层中的第一区域进行灰度曝光处理,形成梯形状的公共腔室,所述梯形状的公共腔室中靠近所述基底的表面面积小于远离所述基底的表面面积;

对所述第一胶层中的第二区域进行曝光处理,形成压力腔室;

在所述压力腔室和梯形状的公共腔室远离所述基底的表面上形成喷孔板;

在所述基底中与所述第一表面相对的第二表面上与所述公共腔室对应的位置处形成通透的供墨孔。

2.根据权利要求1所述的液体喷墨头的制造方法,其特征在于,所述树脂胶为正性光敏树脂;

所述对所述第一胶层中的第一区域进行灰度曝光处理,形成梯形状的公共腔室,包括:

采用第一掩膜对所述第一区域进行曝光处理,所述第一掩膜为灰度掩膜,所述第一掩膜的透光率从中间至两侧逐渐减小,以使所述第一区域中受光照的部分发生变性;

采用第一显影液对所述第一胶层进行显影处理,去除受光照变性的部分,形成梯形状的公共腔室。

3.根据权利要求2所述的液体喷墨头的制造方法,其特征在于,所述对所述第一胶层中的第二区域进行曝光处理,形成压力腔室,包括:

采用第二掩膜对所述第二区域进行曝光处理,所述第二掩膜为普通掩膜,所述第二掩膜的中间完全透光,两侧不透光,以使所述第一区域中受光照的部分发生变性;

采用第一显影液对所述第一胶层进行显影处理,去除受光照变性的部分,形成压力腔室。

4.根据权利要求3所述的液体喷墨头的制造方法,其特征在于,所述在基底上形成压力发生部件,包括:

在所述基底的第一表面上蚀刻形成凹槽;

在所述凹槽内形成压电元件,包括采用溅射法依次形成下电极层、压电体层和上电极层;

在所述上电极层的表面沉积形成振动板。

5.根据权利要求3所述的液体喷墨头的制造方法,其特征在于,所述在基底上形成压力发生部件,包括:

在所述基底的第一表面上沉积形成振动板;

在所述振动板中远离所述基底的表面上形成压电元件,包括采用溅射法形成下电极层,溶胶凝胶法形成压电体层,溅射法形成上电极层,以使所述压力发生部件位于所述压力腔室内。

6.根据权利要求3所述的液体喷墨头的制造方法,其特征在于,所述在基底上形成压力发生部件,包括:

在所述基底的第一表面上沉积形成薄膜电阻层。

7.根据权利要求3所述的液体喷墨头的制造方法,其特征在于,所述在所述压力腔室和梯形状的公共腔室远离所述基底的表面上形成喷孔板,包括:

在所述压力腔室和梯形状的公共腔室远离所述基底的表面上涂覆负性光敏树脂,形成第二胶层;

采用第三掩膜对所述第二胶层进行曝光处理,以使喷孔壁固化,所述第三掩膜为灰度掩膜,所述第三掩膜的透光率从中间至两侧逐渐增大;

采用第二显影液对所述第二胶层进行显影处理,以去除所述第二胶层中未固化的部分,形成喷孔。

8.根据权利要求4所述的液体喷墨头的制造方法,其特征在于,还包括:

在所述基底的第二表面上与所述压力腔室对应的位置处形成压电元件振动空间,以提供所述压电元件振动变形所需的空间。

9.根据权利要求8所述的液体喷墨头的制造方法,其特征在于,还包括:

在所述压电元件两侧蚀刻形成缝隙,以提供所述压电元件振动变形所需的空间。

10.根据权利要求2-9任一项所述的液体喷墨头的制造方法,其特征在于,所述正性光敏树脂为聚甲基丙烯酸甲酯PMMA。

11.一种液体喷墨头,其特征在于,所述液体喷墨头采用权利要求1-10任一项所述的液体喷墨头的制造方法制成。

12.一种打印设备,其特征在于,包括权利要求11所述的液体喷墨头。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于珠海纳思达企业管理有限公司,未经珠海纳思达企业管理有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310432859.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top