[发明专利]一种晶体硅太阳能电池激光扩散方法

权利要求书

1.一种晶体硅太阳能电池激光扩散方法，其特征在于按照如下的方法进行：

步骤一，把干燥的硅片放入扩散炉，激光光源为矩形300 μm × 600  μm，激光扩散包括横向扫描和竖向扫描两种扩散方式，通入氮气保护，将扩散炉温度升高到786 ℃，通入三氯氧磷、氧气、氮气进行第一次扩散，保持三氯氧磷流量1500 ml/min，氧气流量300 ml/min，氮气流量7 L/min，扩散时间13分钟；

步骤二，将温度升高到826℃-838 ℃，保持三氯氧磷流量1500 ml/min，氧气流量2900 ml/min，氮气流量5 L/min，进行第二次扩散，扩散时间10分钟；

步骤三，将温度保持在820℃，保持三氯氧磷流量2000 ml/min，氧气流量2900 ml/min，氮气流量4 L/min，进行第三次扩散，扩散时间 10分钟。

2.根据权利要求1所述的一种晶体硅太阳能电池激光扩散方法，其特征在于：每次扩散过程中，激光光源竖直方向单次扫描长度为156 mm，连续扫描9次，1－3次扫描间隔为100mm，3－4次扫描间隔为52 mm，4－6次扫描间隔为100mm，6－7次扫描间隔为52 mm，7－9次扫描间隔为100mm，激光光源水平方向扫描单次扫描长度为156 mm，连续扫描45次，扫描间距为 10－100 mm。