[发明专利]一种基于交替迭代运算的荧光分子断层成像重建方法有效

专利信息
申请号: 201310367827.1 申请日: 2013-08-21
公开(公告)号: CN103393410A 公开(公告)日: 2013-11-20
发明(设计)人: 陈多芳;易黄建;朱守平;陈冬梅;李维;金征宇;梁继民;田捷 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: A61B5/00 分类号: A61B5/00
代理公司: 北京世誉鑫诚专利代理事务所(普通合伙) 11368 代理人: 郭官厚
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 交替 运算 荧光 分子 断层 成像 重建 方法
【权利要求书】:

1.一种基于交替迭代运算的荧光分子断层成像重建方法,其特征在于:基于光传输模型和有限元理论,将重建目标的光学特性参数和解剖结构信息作为先验信息,建立表面的测量数据与重建目标内部荧光目标分布的线性关系,将该线性关系转化为有约束条件的极小化问题,交替执行加权的代数重建技术与最速下降法来求解,从而获得重建目标内部的荧光目标的三维分布与浓度。

2.根据权利要求1所述的基于交替迭代运算的荧光分子断层成像重建方法,其特征在于:

包括以下步骤:

(1)获取测量数据

a、激发光源对固定在电控旋转台上的重建目标进行多角度的透射式断层扫描;

b、使用光学检测仪器获得测量数据,获得光通量密度Φm

(2)获得重建目标的解剖结构信息以及光学特性参数;

(3)基于光传输模型和有限元理论,将重建目标的解剖结构信息和光学特性参数作为先验信息,建立表面的测量数据与重建目标内部荧光目标分布的线性关系;

(4)将上述线性关系转化为有约束条件的极小化问题:

min||X||2,s.t.|AX-Φm|≤ε,X≥0

ε是一个非负的误差系数,这是一个带有约束条件的2-范数极小化问题;

(5)对步骤(4)中带约束的极小化问题,采用加权的代数重建技术求解约束条件:|AX-Φm|≤ε,X≥0,而2-范数极小化问题则用最速下降法求解;加权的代数重建技术为如下形式:

X=X+βAiΦm-AiXAiAi]]>

其中是矩阵A的第i行,β是正的权值;

(6)利用步骤(5)中荧光目标分布结果计算光通量密度将测量的边界上光通量密度值Φm与计算值之差作为重建程序的停止准则;若则结束重建程序,得到目标分布X;否则,执行下一步;

(7)将步骤(5)的解作为最速下降法的初始解,迭代求解2-范数极小化问题,并使解满足非负性:

X=X-grad_dx*X||X||2|X||X||2|;]]>

其中grad_dx是迭代步长大小,是2-范数极小问题的梯度,是梯度的模值;

(8)利用步骤(7)中荧光目标分布结果计算光通量密度将测量的边界上光通量密度值Φm与计算值之差作为程序的停止准则;若则结束重建程序,得到目标分布X;否则,执行步骤(9);

(9)将步骤(7)获得的解X反过来又作为来执行代数重建技术的初始解,转至步骤(5);

(10)显示结果,将最后的重建结果和成像目标的解剖结构进行图像融合,用Tecplot软件进行显示。

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