[发明专利]曝光装置、控制曝光装置的方法和用于曝光的对齐方法

权利要求书

1.一种曝光装置，包括：

主台，被配置为调整基板的位置；

光束照射单元，被配置为将光束照射到掩膜上；以及

光束监视单元，具有相对于所述主台固定的位置，并且被配置为识别从所述光束照射单元发出且穿过所述掩膜中的开口以形成特定图案的光束。

2.如权利要求1所述的曝光装置，还包括控制单元，所述控制单元被配置为输出表示所述主台的位置的基板位置调整信号以调整所述基板的位置。

3.如权利要求2所述的曝光装置，其中，所述控制单元基于与所述光束监视单元获得的光束有关的信息，输出所述基板位置调整信号。

4.如权利要求3所述的曝光装置，其中，所述控制单元被配置为检查入射到所述光束监视单元的光束的被监视位置，其中所述被监视位置是基于与所述光束监视单元获得的光束有关的信息，所述控制单元基于所述被监视位置与预设参考位置之间的差别，输出所述基板位置调整信号。

5.如权利要求4所述的曝光装置，其中，从所述控制单元输出的所述基板位置调整信号包括：

第一位置调整信号，用于允许所述基板的对齐键相对于所述光束照射单元被设置在预设对齐位置；以及

第二位置调整信号，对应于以所述预设参考位置为起点以及以所述被监视位置为终点的调整向量。

6.如权利要求4所述的曝光装置，还包括对齐键监视单元，所述对齐键监视单元被配置为获得与所述基板的对齐键的位置有关的信息，其中，从所述控制单元输出的所述基板位置调整信号对应于基向量与调整向量之和，所述基向量以所述对齐键监视单元获得的所述基板的对齐键的被检测位置作为起点，以相对于所述光束照射单元的所述预设对齐位置作为终点，所述调整向量以所述预设参考位置作为起点，以所述被监视位置作为终点。

7.如权利要求2所述的曝光装置，还包括用于调整所述掩膜的位置的掩膜台，其中，所述控制单元输出表示所述掩膜台的位置的掩膜位置调整信号，以基于与所述光束监视单元获得的光束有关的信息调整所述掩膜的位置。

8.如权利要求7所述的曝光装置，其中，所述控制单元被配置为基于与所述光束监视单元获得的光束有关的信息，检查入射到所述光束监视单元的光束的被监视位置，并且所述控制单元基于所述被监视位置与预设参考位置之间的差别，输出所述掩膜位置调整信号。

9.如权利要求2所述的曝光装置，还包括对齐键监视单元，所述对齐键监视单元被配置为获得与所述基板的对齐键的位置有关的信息，所述控制单元输出被配置为对所述对齐键监视单元的位置进行调整的对齐键监视单元位置调整信号。

10.如权利要求9所述的曝光装置，其中，所述控制单元基于与所述光束监视单元获得的光束有关的信息，输出所述对齐键监视单元位置调整信号。

11.如权利要求10所述的曝光装置，其中，所述控制单元被配置为基于与所述光束监视单元获得的光束有关的信息，检查入射到所述光束监视单元的光束的被监视位置，并且所述控制单元基于所述被监视位置与预设参考位置之间的差别，输出所述对齐键监视单元位置调整信号。

12.如权利要求11所述的曝光装置，其中，从所述控制单元输出的所述对齐键监视单元位置调整信号对应于以所述预设参考位置为起点且以所述被监视位置为终点的调整向量。

13.一种控制曝光装置的方法，所述方法包括：

通过具有相对于主台固定的位置的光束监视单元，获得与从光束照射单元发出且穿过掩膜中的开口以形成特定图案的光束有关的信息；

基于与所述光束监视单元获得的光束有关的信息，检查入射到所述光束监视单元的光束的被监视位置，并且检查所述被监视位置与预设参考位置之间的差别；

将基板安装在所述主台上或安装在具有能够由所述主台调整的位置的基板安装单元上；以及

通过基于所述被监视位置与所述预设参考位置之间的差别输出基板位置调整信号，调整所述基板的位置。

14.如权利要求13所述的方法，其中，调整所述基板的位置包括：

允许所述基板的对齐键相对于所述光束照射单元被设置在预设对齐位置；以及

通过以所述预设参考位置为起点且以所述被监视位置为终点的调整向量，附加地调整所述基板的位置。