[发明专利]发光装置的制造方法、发光装置的色度调整方法及发光装置的色度调整装置在审

专利信息
申请号: 201310343931.7 申请日: 2013-08-08
公开(公告)号: CN103594566A 公开(公告)日: 2014-02-19
发明(设计)人: 吉田武史;石塚勇史 申请(专利权)人: 株式会社昭和真空
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 代理人: 宋菲;刘云贵
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 发光 装置 制造 方法 色度 调整
【权利要求书】:

1.一种发光装置的制造方法,其特征在于,具有:

搭载发光元件的搭载工序;

搭载荧光体的荧光体搭载工序,该荧光体被所述发光元件发出的光所激发而发出荧光;

使用透光部件封固所述发光元件的封固工序;

使所述发光元件发光,测定与所述荧光混合的混合光的色度的测定工序;以及

根据所述测定的色度,在所述透光部件上形成反射膜的反射膜形成工序,该反射膜具有透光性和比所述透光部件的折射率更大的折射率、且反射所述混合光中的规定波长的光。

2.如权利要求1所记载的发光装置的制造方法,其特征在于,

针对超出规定的合格色度范围的发光元件包括反射膜形成工序,在该反射膜形成工序,在所述透光部件的外侧表面上以50nm以下的膜厚形成反射膜,该反射膜反射所述混合光中的短波长侧的光的规定部分;

根据调整色度,决定所述反射膜的折射率及所述膜厚。

3.如权利要求1或2所记载的发光装置的制造方法,其特征在于,通过原子层沉积法形成所述反射膜。

4.如权利要求1或2所记载的发光装置的制造方法,其特征在于,通过溅镀法或者化学气相沉积法形成所述反射膜。

5.如权利要求3所记载的发光装置的制造方法,其特征在于,将通过封固工序形成的多个封固体设置在同一个处理室内,以提供给所述反射膜形成工序。

6.如权利要求4所记载的发光装置的制造方法,其特征在于,根据事先测定的所述发光装置的色度,将所述发光装置进行分组,并将同等色度范围的所述发光装置设置在同一处理室内,同时进行处理。

7.如权利要求1或2所记载的发光装置的制造方法,其特征在于,所述透光部件的折射率与所述反射膜的折射率之差为0.3以上。

8.如权利要求1或2所记载的发光装置的制造方法,其特征在于,所述发光装置具有:发出所述短波长侧的蓝色光的发光二极管元件;以及荧光体,该荧光体被所述蓝色光所激起而发出比所述蓝色光更高波长侧的荧光。

9.如权利要求1或2所记载的发光装置的制造方法,其特征在于,所述透光部件具有炮弹型形状。

10.如权利要求1或2所记载的发光装置的制造方法,其特征在于,所述反射膜的材料是从由TiO2、ZnO、Ta2O5、Nb2O5、ZrO2、HfO2以及Al2O3构成的群组中选出的一种材料。

11.如权利要求1或2所记载的发光装置的制造方法,其特征在于,所述透光部件具有一层或者多个层,其最外层由硅树脂形成。

12.一种发光装置的色度调整方法,该发光装置射出发光体发出的多色混合光,在射出面上形成有透光部件,该色度调整方法的特征在于,

测定所述发光装置射出的光的色度;

根据所述色度,在所述透光部件的表面形成反射膜,该反射膜具有透光性和比所述透光部件的折射率更大的折射率、且反射所述发光体发出的光中的规定波长的光。

13.如权利要求12所记载的发光装置的色度调整方法,其特征在于,针对超出规定的合格色度范围的发光装置,在所述透光部件外侧表面上以50nm以下的膜厚形成反射膜,该反射膜反射所述发光体发出的光中的短波长侧的光的规定的一部分;

根据调整色度来决定所述反射膜的折射率及所述膜厚。

14.一种发光装置的色度调整装置,其特征在于,具有:

测定装置,测定所述发光装置射出的光的色度;以及

反射膜形成装置,在所述发光装置的外侧表面上形成反射膜,该反射膜具有透光性且反射由所述反光装置射出的光中的规定波长的光,

根据所述测定装置的输出,决定所述反射膜的折射率及所述膜厚,

所述发光装置射出发光体发出的多色混合光,在射出面形成透光部件,

所述反射膜的折射率大于所述透光部件的折射率。

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