[发明专利]纹理化成像构件

权利要求书

1.一种包括表面层的成像构件，其中所述表面层包含基质材料、气凝胶组分和辐射吸收填料。

2.根据权利要求1所述的成像构件，其中所述气凝胶组分包括二氧化硅气凝胶组分。

3.根据权利要求1所述的成像构件，其中所述辐射吸收填料包括炭黑。

4.根据权利要求1所述的成像构件，其中所述气凝胶组分具有小于约5μm的平均粒度。

5.根据权利要求1所述的成像构件，其中所述气凝胶组分具有小于约1μm的平均粒度。

6.一种用于可变平版印刷的方法，其包括：

将贮墨器溶液施用至包括成像构件表面的成像构件；

通过从所述成像构件表面上的选定位置蒸发所述贮墨器溶液以形成疏水性非图像区域和亲水性图像区域，从而形成潜像；

通过将油墨组合物施用至所述亲水性图像区域而使所述潜像显影；以及

将经显影的潜像转印至接收基材；

其中所述成像构件表面包含基质材料、气凝胶组分和辐射吸收填料。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述基质材料包括硅氧烷；其中所述气凝胶组分包括二氧化硅气凝胶组分；且其中所述辐射吸收填料包括炭黑。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述表面层包含约0.1至约10wt％的二氧化硅气凝胶组分和约5至约15wt％的炭黑。

9.根据权利要求6所述的方法，其中所述气凝胶组分具有小于约3μm的平均粒度。

10.根据权利要求6所述的方法，其中碾磨所述气凝胶组分，以获得小于约1μm的平均粒度。