[发明专利]玻璃基板的清洗方法及实现该方法的装置

权利要求书

1.一种玻璃基板的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、提供一传送平台（20）及待清洗的玻璃基板（40），所述待清洗的玻璃基板（40）上附着有杂质（42），所述杂质（42）包括磁性杂质与非磁性杂质；

步骤2、将待清洗的玻璃基板（40）置于该传送平台（20）上；

步骤3、提供两个吹气装置（60），该两吹气装置（60）间隔设置于传送平台（20）上方；

步骤4、该两个吹气装置（60）向待清洗的玻璃基板（40）吹气，以使得附着于待清洗的玻璃基板（40）上的杂质（42）脱离玻璃基板（40）；

步骤5、提供吸附装置（80），该吸附装置（80)包括吸气装置（82)及磁吸装置（84），该吸气装置（82）包括置于两吹气装置（60）之间的吸气口（822），所述磁吸装置（84）位于吸气装置（82)吸气口（822)内；

步骤6、所述吸气装置（82）对待清洗的玻璃基板（40）进行吸气，且该磁吸装置（84）对待清洗的玻璃基板（40）上的磁性杂质产生磁吸力，进而将待清洗的玻璃基板（40）上的杂质（42）吸入吸附装置（80）内。

2.如权利要求1所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于，所述每一吹气装置（60）内设有一超声波发生器（62），该两个吹气装置（60）内的两超声波发生器（62）发出的超声波相对倾斜并汇聚于待清洗的玻璃基板（40）上，超声波发生器（62）的频率为30K～100K Hz。

3.如权利要求1所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于，所述吸气装置（82）还包括连通吸气口（822）的储杂部（824）及设于储杂部（824）远离吸气口（822）端的抽气装置。

4.如权利要求3所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于，所述抽气装置与储杂部（824）之间设有隔离网。

5.如权利要求1所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于，所述磁吸装置（84）为一柱状电磁铁。

6.一种玻璃基板的清洗装置，其特征在于，包括：机架、安装于机架上的传送平台（20）、安装于机架上且位于传送平台（20）上方的间隔设置的两个吹气装置（60）及安装于机架上的吸附装置（80），所述吸附装置（80）包括吸气装置（82)及磁吸装置（84），该吸气装置（82）包括置于两吹气装置（60）之间的吸气口（822），所述磁吸装置（84）位于吸气装置（82）吸气口（822）内。

7.如权利要求6所述的玻璃基板的清洗装置，其特征在于，所述每一吹气装置（60）内设有一超声波发生器（62），该两个吹气装置（60）内的两超声波发生器（62）发出的超声波相对倾斜并汇聚于待清洗的玻璃基板（40）上，超声波发生器（62）的频率为30K～100K Hz。

8.如权利要求6所述的玻璃基板的清洗装置，其特征在于，所述吸气装置（82）还包括连通吸气口（822）的储杂部（824）及设于储杂部（824）远离吸气口（822）端的抽气装置。

9.如权利要求8所述的玻璃基板的清洗装置，其特征在于，所述抽气装置与储杂部（824）之间设有隔离网。

10.如权利要求6所述的玻璃基板的清洗装置，其特征在于，所述磁吸装置（84）为一柱状电磁铁。