[发明专利]一种工作在软X射线波段的并联平场光栅及其设计方法

权利要求书

1.一种工作在软X射线波段的并联平场光栅的设计方法，其特征在于，对G1和G2两组线密度不同的光栅，通过曝光—刻蚀—再爆光—再刻蚀的方法将两组光栅做在同一基底上形成并联平场光栅，其中光栅的基底面为球面；该并联平场光栅要求两组光栅具有相同的入射距离、入射角度、成像位置和球面基底半径，以便实现两组光栅同时工作，实现波段的扩展，采用遗传算法对光栅的入射距离、入射角度和成像位置这些工作参数，以及光栅的基底半径、中心线密度和光栅的线密度变化系数这些光栅参数进行优化，确定各项参数，并联平场光栅在保证波段扩展的前提下，与现有的平场光栅具有相当的分辨特性。

2.根据权利要求1所述的一种工作在软X射线波段的并联平场光栅的设计方法，其特征在于，两组光栅G1和G2的中心线密度分别为1200线/mm和2400线/mm，工作波段分别为5～30nm和2～5nm。

3.根据权利要求1所述的一种工作在软X射线波段的并联平场光栅的设计方法，其特征在于，选取入射距离r=237mm，成像位置f=235mm，通过遗传算法的优化，选取光栅的入射角度为88°，光栅的基底半径为9320mm，详细结果见表1，两组光栅在入射距离为237mm，入射角度为88°的情况下，成像位置均在235mm处；

表1   并联光栅的参数

则并联平场光栅具有理论上的可行性。

4.一种利用权利要求1至3任一项所述的设计方法设计的工作在软X射线波段的并联平场光栅。