[发明专利]水性金刚石抛光液及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201310297761.3 申请日: 2013-07-16
公开(公告)号: CN104293205A 公开(公告)日: 2015-01-21
发明(设计)人: 张顾耀;张莎;唐传梅;马洪列;李荣得 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 水性 金刚石 抛光 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种研磨抛光加工用的抛光液,尤其涉及一种水性金刚石抛光液及其制备方法。

背景技术

抛光液是抛光技术中的关键要素,其性能直接影响抛光后的表面质量。金刚石微粉广泛应用于机械、电子、冶金、建筑及国防等各个领域,是研磨抛光不锈钢、硬质合金、玻璃、宝石、陶瓷、集成电路等高硬材料的理想磨料。金刚石微粉既可作散粒磨料使用,又可制成油性或水性的抛光液、研磨膏、研磨片、砂纸等使用。随着精密加工的迅速发展,近年来金刚石抛光液发展很快。与研磨膏相比,由于抛光液能迅速带走加工过程中所产生的热量及研磨屑,因而更适宜于大规模工业化生产。与油性抛光液相比,水性金刚石抛光液由于环保低毒、无腐蚀性、后处理简单等优势应用更为广泛。与硅溶胶等抛光液相比,金刚石抛光液的抛光效率能提高几倍,表面粗糙度显着降低,因而常用于抛光多种难加工的硬脆材料,例如多种晶体及硬盘磁头、微晶玻璃等工件。但是由于微米级金刚石微粉比重大而容易沉淀,致使抛光液体系的稳定性较差,影响了抛光效果,这些问题限制了金刚石抛光液的应用。

发明内容

有鉴于此,本发明提供一种稳定性好的水性金刚石抛光液。

另外,本发明还提供一种上述水性金刚石抛光液的制备方法。

一种水性金刚石抛光液,由下列重量分数的组分组成:

一种水性金刚石抛光液的制备方法,包括如下步骤:

将去离子水、分散剂、悬浮助剂、金刚石微粉混合后,分散成沉淀疏松的金刚石微粉溶液,该分散方法采用机械搅拌、超声振荡及机械球磨中的一种或几种的配合,分散时间为1-2小时;

将悬浮剂加入到所述金刚石微粉溶液中,继续分散得到悬浮稳定的水性金刚石抛光液,该继续分散的方法采用机械搅拌、超声振荡及机械球磨中的一种或几种的配合,分散时间为1-2小时;

加入杀菌剂、消泡剂和pH调节剂,调节水性金刚石抛光液的pH值为2-12。

本发明具有上述组成的水性金刚石抛光液稳定性好,抛光效率高。

具体实施方式

本发明的水性金刚石抛光液,由下列重量分数(以下用“wt%”表示)的组分组成:

所述金刚石微粉选用单晶或多晶金刚石微粉,金刚石微粉的粒径范围为0.5μm-100μm。

所述分散剂选用聚乙烯醇、聚氧乙烯醚、十二烷基苯磺酸钠、聚磷酸钠、六偏磷酸钠、丙烯酸共聚物、聚丙烯酰胺、聚丙烯酸衍生物、聚乙烯吡咯烷酮中的一种或多种的混合物。

所述悬浮剂选用羧甲基纤维素、羧甲基纤维素钠、羟烷基纤维素、沉淀白炭黑、气相白炭黑、膨润土及其衍生物、有机粘土、硅酸镁铝、聚丙烯酸、丙烯酸共聚物中的一种或几种的混合物。

所述pH值调节剂选用氨水、二乙醇胺、三乙醇胺、二羟乙基乙二胺、盐酸、硫酸、磷酸、硝酸、醋酸、氢氧化钠、氢氧化钾中的一种或几种的混合物;抛光液的pH值根据需要在2-12范围内调节。

所述杀菌剂选用苯甲酸钠、氯化钠、胺类化合物、取代芳烃、异噻唑啉酮中的一种或几种的混合物。

所述消泡剂选用有机硅化合物、聚醚、改性聚醚中的一种或几种的混合物。

所述悬浮助剂选用甲醇、乙醇、乙二醇、丙二醇、丙三醇、聚乙二醇、乙二胺中的一种或几种的混合物。

上述水性金刚石抛光液的制备方法,包括如下步骤:

将去离子水、分散剂、悬浮助剂、金刚石微粉混合后,分散成沉淀疏松的金刚石微粉溶液。分散方法可以采用机械搅拌、超声振荡、机械球磨中的一种或几种的配合。分散时间以1-2小时为宜。

将悬浮剂加入到金刚石微粉溶液中,继续分散得到悬浮稳定的水性金刚石抛光液。分散方法可以采用机械搅拌、超声振荡、机械球磨中的一种或几种的配合。分散时间以1-2小时为宜。

最后加入杀菌剂、消泡剂和pH调节剂,根据需要调节水性金刚石抛光液的pH值,调节范围为2-12。

上述水性金刚石抛光液很少发生沉淀,稳定性好,抛光效率高。

下面结合具体实施例,对本发明进行进一步详细说明。实施例1-3中的“wt%”表示重量百分数。

实施例1

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