[发明专利]镁合金表面氧化层的激光蚀刻加工方法有效

专利信息
申请号: 201310293821.4 申请日: 2013-07-12
公开(公告)号: CN103317240A 公开(公告)日: 2013-09-25
发明(设计)人: 刘茂立;王宏烈;王炜;赵登华;徐忠怀 申请(专利权)人: 北京东明兴业科技有限公司
主分类号: B23K26/36 分类号: B23K26/36
代理公司: 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 代理人: 郑立明;赵镇勇
地址: 北京市怀柔区雁*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 镁合金 表面 氧化 激光 蚀刻 加工 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种镁合金表面氧化层的加工方法,尤其涉及一种镁合金表面氧化层的激光蚀刻加工方法。

背景技术

镁合金是最轻的金属结构材料,其密度是1.75-1.90g/cm3,镁合金的强度和弹性模量较低,但它有较高的比强度和比刚度,在相同重量的构件中,选用镁合金会使构件获得更高的刚度。镁合金具有很高的阻尼容量和良好的消震性能,它可以承受较大的冲击负荷。镁合金还具有优良的电磁屏蔽性、很好的回收性等优点,其在航天、汽车、电子产品行业有着广泛的应用前景,特别是手机构件,镁合金已在手机行业广泛应用。

镁合金具有很高的化学和电化学活性,在大气中特别是潮湿的空气中很容易受到腐蚀,为了提高镁合金的抗腐蚀性能,一般在其表面进行化学氧化或阳极氧化处理,大大提高了镁合金的表面抗腐蚀性能,但是却大大降低了镁合金表面的导电性能。

在手机构件中,镁合金表面有些区域需要优良的导电性,这就需要将镁合金表面的氧化层蚀刻掉,现有技术中一般采用化学蚀刻方法。

上述现有技术至少存在以下缺点:

成本高、污染严重、能耗高、工艺复杂、容易伤到镁合金内部。

发明内容

本发明的目的是提供一种工艺简单、速度快、成本低、耗能低、无污染的镁合金表面氧化层的激光蚀刻加工方法。

本发明的目的是通过以下技术方案实现的:

本发明的镁合金表面氧化层的激光蚀刻加工方法,是利用激光束照射镁合金的表面需蚀刻的部位,使表面氧化层直接升华,蚀刻掉表面氧化层,用于提高镁合金的导电性能。

由上述本发明提供的技术方案可以看出,本发明实施例提供的镁合金表面氧化层的激光蚀刻加工方法,由于利用激光束照射镁合金的表面需蚀刻的部位,使表面氧化层直接升华,蚀刻掉表面氧化层,用于提高镁合金的导电性能,不但可以轻松去掉镁合金的氧化层,而且工艺简单、速度快、成本低、耗能低、无污染。

具体实施方式

下面将对本发明实施例作进一步地详细描述。

本发明的镁合金表面氧化层的激光蚀刻加工方法,其较佳的具体实施方式是:

利用激光束照射镁合金的表面需蚀刻的部位,使表面氧化层直接升华,蚀刻掉表面氧化层,用于提高镁合金的导电性能。

所述蚀刻深度为三十微米到九十微米。

包括如下步骤:

首先,根据产品需要蚀刻的区域在CAD软件中画好图纸,并将图纸导入到激光雕刻机的电脑里,设定好雕刻的工艺参数;

然后,将产品放在雕刻机工作台的专用夹具上夹紧,根据所述图纸对产品进行雕刻;

雕刻完毕后,将产品从夹具上取下,放到专用托盘里。

所述工艺参数包括电流、频率、速度、线条宽度和填充密度。

具体工艺参数可以设定如下:

电流设定:20A-30A,频率设定:10000HZ-20000HZ,速度设定:200mm/s-500mm/s,线条宽度设定:0.1mm-0.2mm,填充密度设定:0.01-0.04。

雕刻过程中需要关好雕刻机的屏蔽门,眼睛不要直视激光束。

本发明的镁合金表面氧化层的激光蚀刻加工方法,利用高能量的激光束照射到镁合金的表面,将表面氧化层直接升华,大大提高了镁合金的导电性能;能精确控制激光的能量,可以很好的控制蚀刻的深度,不会伤害到镁合金内部;可以制作客户要求的各种图案,雕刻的图案十分精确,可以精确到微米级,还可以雕刻出复杂的,漂亮的图案;不但可以去掉镁合金的氧化层,不伤害镁合金内部结构,而且工艺操作简单、速度快、无污染、低能耗、低成本。

具体实施例:

利用高能量的激光束照射到镁合金的表面,将表面氧化层直接升华,蚀刻掉表面氧化层就可以大大提高镁合金的导电性能,蚀刻深度可以是三十微米到九十微米。

具体包括如下步骤:

a)、根据产品需要蚀刻的区域在CAD软件中画好图纸。

b)、图纸的尺寸要保证和蚀刻区域的尺寸一致。

c)、将图纸导入到激光雕刻机的电脑里。

d)、设定好雕刻的工艺参数;

e)、将产品放在雕刻机工作台的专用治具上。

f)、检查产品是否安装到位,夹紧。

g)、打开排风机,关好屏蔽门。

h)、打开需要雕刻的图纸,对产品进行雕刻。

i)、雕刻完毕,将产品从治具上取下,放到专用托盘里。

其中,步骤d)中的工艺参数设定为:

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