[发明专利]镁合金表面氧化层的激光蚀刻加工方法有效
申请号: | 201310293821.4 | 申请日: | 2013-07-12 |
公开(公告)号: | CN103317240A | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
发明(设计)人: | 刘茂立;王宏烈;王炜;赵登华;徐忠怀 | 申请(专利权)人: | 北京东明兴业科技有限公司 |
主分类号: | B23K26/36 | 分类号: | B23K26/36 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人: | 郑立明;赵镇勇 |
地址: | 北京市怀柔区雁*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镁合金 表面 氧化 激光 蚀刻 加工 方法 | ||
1.一种镁合金表面氧化层的激光蚀刻加工方法,其特征在于,利用的激光束照射镁合金的表面需蚀刻的部位,使表面氧化层直接升华,蚀刻掉表面氧化层,用于提高镁合金的导电性能。
2.根据权利要求1所述的镁合金表面氧化层的激光蚀刻加工方法,其特征在于,所述蚀刻深度为三十微米到九十微米。
3.根据权利要求1或2所述的镁合金表面氧化层的激光蚀刻加工方法,其特征在于,包括如下步骤:
首先,根据产品需要蚀刻的区域在CAD软件中画好图纸,并将图纸导入到激光雕刻机的电脑里,设定好雕刻的工艺参数;
然后,将产品放在雕刻机工作台的专用夹具上夹紧,根据所述图纸对产品进行雕刻;
雕刻完毕后,将产品从夹具上取下,放到专用托盘里。
4.根据权利要求3所述的镁合金表面氧化层的激光蚀刻加工方法,其特征在于,所述工艺参数包括电流、频率、速度、线条宽度和填充密度。
5.根据权利要求4所述的镁合金表面氧化层的激光蚀刻加工方法,其特征在于,所述工艺参数设定如下:
电流设定:20A-30A,频率设定:10000HZ-20000HZ,速度设定:200mm/s-500mm/s,线条宽度设定:0.1mm-0.2mm,填充密度设定:0.01-0.04。
6.根据权利要求5所述的镁合金表面氧化层的激光蚀刻加工方法,其特征在于,雕刻过程中需要关好雕刻机的屏蔽门,眼睛不要直视激光束。
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