[发明专利]钛掺杂铟酸稀土盐发光薄膜、制备方法及其应用

说明书

技术领域

本发明涉及发光材料领域，尤其涉及一种钛掺杂铟酸稀土盐发光薄膜、其制备方法、薄膜电致发光器件及其制备方法。

背景技术

薄膜电致发光显示器(TFELD)由于其主动发光、全固体化、耐冲击、反应快、视角大、适用温度宽、工序简单等优点，已引起了广泛的关注，且发展迅速。目前，研究彩色及至全色TFELD，开发多波段发光的材料，是该课题的发展方向。但是，可应用于薄膜电致发光显示器的钛掺杂铟酸稀土盐发光薄膜，仍未见报道。

发明内容

基于此，有必要提供一种可应用于薄膜电致发光器件的钛掺杂铟酸稀土盐发光薄膜、其制备方法、使用该钛掺杂铟酸稀土盐发光薄膜的薄膜电致发光器件及其制备方法。

一种钛掺杂铟酸稀土盐发光薄膜，所述钛掺杂铟酸稀土盐发光薄膜的材料的化学通式为Me_1-xInO₃：xTi⁴⁺；

其中，MeInO₃是基质，且x为0.03～0.12，Me为Y、La、Gd或Lu。

在优选的实施例中，所述钛掺杂铟酸稀土盐发光薄膜的厚度为60nm～400nm。

一种钛掺杂铟酸稀土盐发光薄膜的制备方法，包括以下步骤：

根据Me_1-xInO₃：xTi⁴⁺各元素的化学计量比称取Me₂O₃、In₂O₃和TiO₂粉体并混合均匀在900℃～1300℃下烧结制成靶材，其中，x为0.03～0.12，Me为Y、La、Gd或Lu；

将衬底及所述靶材与所述装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体，并调整所述真空腔体的真空度为1.0×10^-3Pa～1.0×10^-5Pa；及

调整工作气体的流量为10sccm～30sccm，工作气体的压强为0.2Pa～4.5Pa，所述靶材与所述衬底的间距为50mm～100mm，所述衬底的温度为250℃～750℃，溅射功率为60W～300W，在所述衬底上磁控溅射得到钛掺杂铟酸稀土盐发光薄膜，所述钛掺杂铟酸稀土盐发光薄膜的材料的化学通式为Me_1-xInO₃：xTi⁴⁺，其中，x为0.03～0.12，Me为Y、La、Gd或Lu。

在优选的实施例中，还包括步骤：在得到钛掺杂铟酸稀土盐发光薄膜后，将所述钛掺杂铟酸稀土盐发光薄膜在0.001Pa～0.1Pa、500℃～800℃下退火1小时～3小时。

在优选的实施例中，磁控溅射的操作中，工作气体的流量为25sccm，工作气体的压强为2Pa，所述靶材与所述衬底的间距为75mm，所述衬底的温度为600℃，所述溅射功率为150W。

在优选的实施例中，所述衬底为ITO衬底；所述工作气体为氩气。

在优选的实施例中，磁控溅射的操作中，通过控制磁控溅射的时间为10min～40min，得到厚度为60nm～400nm的钛掺杂铟酸稀土盐发光薄膜。

一种薄膜电致发光器件，包括依次层叠的基底、阳极层、发光层以及阴极层，所述发光层为钛掺杂铟酸稀土盐发光薄膜，所述钛掺杂铟酸稀土盐发光薄膜的材料的化学通式为Me_1-xInO₃：xTi⁴⁺；

其中，MeInO₃是基质，且x为0.03～0.12，Me为Y、La、Gd或Lu。

一种薄膜电致发光器件的制备方法，包括以下步骤：

提供衬底，所述衬底包括层叠的基底和阳极层；

在所述阳极层上形成发光层，所述发光层为钛掺杂铟酸稀土盐发光薄膜，所述钛掺杂铟酸稀土盐发光薄膜的材料的化学通式为Me_1-xInO₃：xTi⁴⁺，其中，MeInO₃是基质，且x为0.03～0.12，Me为Y、La、Gd或Lu；

在所述发光层上形成阴极层。

在优选的实施例中，所述发光层的制备包括以下步骤：