[发明专利]微错位长周期光纤光栅及制作方法有效
申请号: | 201310291983.4 | 申请日: | 2013-07-12 |
公开(公告)号: | CN103308984A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | 张伟刚;白志勇;高社成;严铁毅 | 申请(专利权)人: | 南开大学 |
主分类号: | G02B6/25 | 分类号: | G02B6/25;G02B6/255;G02B6/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300071 天津市南开*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 错位 周期 光纤 光栅 制作方法 | ||
技术领域
本发明属于传感与通信技术领域,具体涉及到一种新型长周期性光纤光栅的设计及其制作。
背景介绍
长周期光纤光栅可以在厘米、毫米甚至微米尺度上实现对光信号的直接控制,它具有插入损耗低、反射小、抗电磁干扰及与通信光纤完全兼容等优点,已被广泛应用于传感及通信领域。自1996年长周期光纤光栅问世以来,多种光栅加工技术被人们相继提出。以紫外(UV)曝光,二氧化碳(CO2)激光技术为代表的激光写制方法和以电弧放电、声光调制为代表的非激光诱导技术,实现了调制结构多样化、性能独特的长周期光纤光栅,并为其应用提供了技术支持。近年来,随着光纤器件集成化、微型化的发展,结构更精巧的长周期光纤光栅成为研究热点。飞秒刻蚀技术、微纳光纤与其他成栅方法结合技术,因其制作的长周期光纤光栅尺寸小、性能优而成为人们最近关注的对象。同时,探索制作简便、集成微型、成本低廉、适用性强的长周期光纤光栅新方法和实用技术,一直是人们热衷研究的领域。
目前,可实现小尺寸(毫米或微米量级)长周期光纤光栅方法已有报道,其代表性的方法有三类。下面分别加以简述。
1.飞秒激光刻蚀及填充法
(1)飞秒激光刻蚀法:沿光纤轴向周期性刻蚀若干个微槽或微孔,形成对光纤波导基模场周期性调控并形成光栅,从而实现从基模向高阶包层模的耦合。这种制作方法一般仅需若干个(10个左右)微孔便可形成损耗强度超过20dB的光栅,其光栅长度可小于4毫米。
(2)飞秒激光填充法:利用飞秒激光与光纤材料相互作用特性,将飞秒激光光束聚焦在实芯光子晶体光纤(PCF)孔气孔包层中心位置,通过微爆炸和再沉积过程对光纤包层孔气孔进行周期性填充,从而实现基模向特定包层模式的耦合。这种制作方法可以实现长度小于5mm的长周期光纤光栅制作。
2.CO2激光热激法
利用二氧化碳激光在普通单模光纤或实芯PCF上热激,可实现光纤的周期拉锥,从而制作小尺寸的长周期光纤光栅。对于普通单模光纤,最少三个拉锥点即可成栅,而光栅总长度可小于2mm。对于PCF,利用CO2激光热激光纤使外包层半径减小,也能形成较短的长周期光纤光栅,其尺寸在3mm以内。
3.基于微纤成栅法
在微纤(<10μm)上,利用飞秒激光、CO2激光可以实现长周期光纤光栅的刻制,其光栅尺寸在2mm以内。另外,通过对微纤进行酸蚀,或者通过两段微纤相互作用,也可实现长周期光纤光栅制作,其长度可小于500μm。
上述几种光栅制作方法,其实质是使光纤结构发生较大改变而形成光栅。而这种结构的改变,需要精细的加工设备(如昂贵的飞秒激光器等)和苛刻的制作环境(如微纤拉制时室内气流需要稳衡等),因此成栅会受到一定限制。
发明内容
本发明提供一种小尺寸的微错位长周期光纤光栅及制作方法。
微错位长周期光纤光栅的特征是:沿光纤轴向排列多个错位点形成周期性结构,即通过将光纤精密截取并等间距进行熔接,使光纤沿轴向形成周期性错位级联结构,实现光纤模式的新型调制,从而制作出具有微错位结构的长周期光纤光栅。研究表明,沿光纤轴向周期性加工错位结构,错位点间隔为数百μm。当错位量为3.5μm时,仅三个错位点便可形成长周期光纤光栅,此时该光栅长度约1mm。
微错位长周期光纤光栅的制作方法如下:1)将一段剥去涂覆层的光纤置于精密切割系统中,准直后切割,并保证端面平整;2)在系统监视器监控下,将切割的两段光纤通过熔接机进行微错位熔接;3)将熔接后的光纤再置于精密切割系统中,并在精密微位移装置控制下平移光纤一定距离L;4)在新位置重复步骤1)~3)制作新的微错位点。重复以上步骤形成等周期的错位级联结构,便可制成错位型长周期光纤光栅。制作过程中的注意事项:一是在步骤1)中,要求光纤与切割系统有很好的准直性,以保证光纤切割质量;二是在错位熔接时,要提前设定好错位量及放电强度;三是要注意熔接前光纤的推进量S,光栅周期Λ是错位点移动长度L与其推进量S的差值。
本发明的技术效果是:制作微错位长周期光纤光栅无需激光设备,工艺简单,制作灵活,制作成本低。光栅尺寸为毫米量级,因其微错位结构,使其具有良好的扭转特性,而对折射率则其敏感性较低。
附图说明
图1为微错位长周期光纤光栅制作装置示意图(其中熔接机未显示),虚线框代表光栅的错位结构示意图。
图2为制作的微错位长周期光纤光栅实物显微图。
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