[发明专利]微错位长周期光纤光栅及制作方法

权利要求书

1.一种新型长周期光栅制作方法，其特征在于：沿光纤轴向排列多个错位点形成周期性结构，即通过将光纤精密截取并等间距进行熔接，使光纤沿轴向形成周期性错位级联结构，实现光纤模式的新型调制，从而制作出具有微错位结构的长周期光纤光栅。

2.根据权利要求1所述微错位长周期光纤光栅，其制作方法是：1)将一段剥去涂覆层的光纤置于精密切割系统中，准直后切割，并保证端面平整；2)在系统监视器监控下，将切割的两段光纤通过熔接机进行微错位熔接；3)将熔接后的光纤再置于精密切割系统中，并在精密微位移装置控制下平移光纤一定距离L；4)在新位置重复步骤1)～3)制作新的微错位点。重复以上步骤形成等周期的错位级联结构，便可制成错位型长周期光纤光栅。

3.根据权利要求1所述微错位长周期光纤光栅，其特征在于：精密切割系统由光纤切割刀、三维微位移平台、轮滑组等组成；光纤错位熔接通过单芯光纤熔接机电弧放电来实现。

4.一种微错位长周期光纤光栅及制作方法，其特征在于：沿垂直与光纤轴向的方向上的错位量在0.1～10μm之间，光栅周期在10μm至几mm之间。

5.根据权利要求1所述微错位长周期光纤光栅，其特征在于：1)尺寸短小(约1.1mm)，仅两个周期便可形成光栅；2)其折射率敏感性低于同尺寸光纤光栅的折射率敏感性；3)可实现扭转应力的大小与方向的同时测量。

6.根据权利要求1所述微错位长周期光纤光栅，其特征在于：光栅制作所使用的光纤可为各种类型的光纤，如标准单模光纤，双包层光纤、保偏光纤、多模光纤、空心光纤、光子晶体光纤、微结构光纤等。

7.根据权利要求2所述微错位长周期光纤光栅制作方法，其特征在于：在光栅制作过程中，可以用其他熔接方式产生不同的调制代替错位熔接，如过熔、不同类型光纤熔接等，从而形成其他调制类型的长周期光纤光栅。