[发明专利]一种基于框架采用切割刀优化技术的扁平封装件的制作工艺

说明书

 

技术领域

本发明涉及集成电路封装技术领域，具体是一种基于框架采用切割刀优化技术的扁平封装件的制作工艺。

背景技术

QFN（四面扁平无引脚封装）及DFN（双扁平无引脚封装）封装是在近几年随着通讯及便携式小型数码电子产品(数码相机、手机、PC、MP3)的产生而发展起来的、适用于高频、宽带、低噪声、高导热、小体积、高速度等电性要求的中小规模集成电路的封装。QFN/DFN封装有效地利用了引线脚的封装空间，从而大幅度地提高了封装效率。但目前大部分半导体封装厂商QFN/DFN的制造过程中都面临一些工艺困惑，原因是现有QFN/DFN工艺的塑封工序中，由于框架结构的局限性，使用的台阶状引线框架的防缺陷（分层）工艺措施并非完全有效，导致QFN/DFN封装存在以下不足：

在产品生产过程中，由于各种尺寸的产品都有可能加工，但是加工所用的切割夹具价格非常昂贵，限制了很多不同尺寸产品的加工；也由于厚度过大，切割刀无法穿透，其中就包括较厚产品（厚度大于3.0mm的产品厚度）的封装。

发明内容

为了克服上述现有技术存在的问题，本发明的目的是提供一种基于框架采用切割刀优化技术的扁平封装件的制作工艺，在产品生产过程中不用重新制作切割夹具，提高了产品生产周期，降低了生产成本。

一种基于框架采用切割刀优化技术的扁平封装件的工艺流程如下：晶圆减薄→划片→上芯（粘片）→压焊→塑封→后固化→使用长切割刀切割→检验→包装→入库。

一种基于框架采用切割刀优化技术的扁平封装件的制作工艺，具体按照以下步骤进行：

第一步、晶圆减薄：晶圆减薄厚度50μm～200μm，粗糙度Ra 0.10mm～0.05mm ；

第二步、划片：150μm以上晶圆同普通QFN/DFN划片工艺，但厚度在150μm以下晶圆，使用双刀划片机及其工艺；

第三步、上芯（粘片）：既可采用粘片胶又可采用胶膜片（DAF）上芯；

第四步、压焊，塑封，后固化，打印，与常规QFN/DFN工艺相同；

第五步、切割：使用增加了长度的切割刀进行切割；

在常规封装过程中，在切割工序中使用优化后的切割刀，增加切割刀的长度，使用本法在进行厚产品的封装时既解决了切割刀无法穿透的问题又避免做新尺寸的切割夹具的问题，降低了生产成本，也省去了制作切割夹具的时间，缩短了生产周期；

第六步、检验、包装等均与常规QFN/DFN工艺相同。

附图说明

图1引线框架剖面图；

图2产品上芯后剖面图；

图3 产品压焊后剖面图；

图4产品塑封后剖面图；

图5产品后固化后剖面图；

图6产品分离后剖面图；

图7成品剖面图。

图中，1为引线框架，2为粘片胶，3为芯片，4为键合线，5为塑封体。

具体实施方式

以下根据附图对该发明做进一步的说明。

如图7所示，一种基于框架的扁平封装件主要由引线框架1、粘片胶2、芯片3、键合线4和塑封体5组成。所述引线框架1与芯片3通过粘片胶2连接，键合线4连接引线框架1和芯片3，塑封体5包围了引线框架1、粘片胶2、芯片3和键合线4。塑封体5对芯片3和键合线4起到了支撑和保护作用。芯片3、键合线4、塑封体5、引线框架1构成了电路的电源和信号通道。

一种基于框架采用切割刀优化技术的扁平封装件的工艺流程如下：晶圆减薄→划片→上芯（粘片）→压焊→塑封→后固化→使用长切割刀切割→检验→包装→入库。

如图所示，一种基于框架采用切割刀优化技术的扁平封装件的制作工艺，按照以下步骤进行：

第一步、晶圆减薄：晶圆减薄厚度50μm～200μm，粗糙度Ra 0.10mm～0.05mm ；

第二步、划片：150μm以上晶圆同普通QFN/DFN划片工艺，但厚度在150μm以下晶圆，使用双刀划片机及其工艺；

第三步、上芯（粘片）：既可采用粘片胶又可采用胶膜片（DAF）上芯；

第四步、压焊，塑封，后固化，打印，与常规QFN/DFN工艺相同；

第五步、切割：使用增加了长度的切割刀进行切割；

在常规封装过程中，在切割工序中使用优化后的切割刀，增加切割刀的长度，使用本法在进行厚产品的封装时既解决了切割刀无法穿透的问题又避免做新尺寸的切割夹具的问题，降低了生产成本，也省去了制作切割夹具的时间，缩短了生产周期；

第六步、检验、包装等均与常规QFN/DFN工艺相同。

本发明可用于单芯片封装。