[发明专利]一种硅片冲洗装置

说明书

技术领域

本发明涉及硅片生产辅助设备技术领域，具体涉及一种硅片生产过程中，对硅片进行清洗的硅片冲洗装置。

背景技术

在单晶硅生产过程中，需要对硅片进行清洗，现有的清洗设备，只是采用一个清洗槽，将硅片放置在清洗槽中并添加清洗水，由人工对硅片进行清洗，清洗槽中的水不能流动，需要频繁的换水，不能对硅片进行彻底的清洗，同时采用人工清洗其效率较低。

发明内容

针对上述技术问题，本发明提供一种硅片冲洗装置，其结构比较简单，不需要频繁换水，能够对硅片进行彻底清洗，同时能够提高清洗效率。

实现本发明的技术方案如下：

一种硅片冲洗装置，包括清洗槽，还包括储水罐、对储水罐中的水进行输送的输送装置，以及位于清洗槽上方的旋转装置，旋转装置包括支架、固定设置在支架上的驱动电机、固定连接在驱动电机输出轴上的转轴，以及固定连接在转轴下端的旋转平台，所述旋转平台位于清洗槽内，输送装置的输出端位于旋转平台的上方。

所述清洗槽内设置有对清洗槽内的水位进行检测的液位传感器，液位传感器与控制输送装置工作的控制器连接，所述清洗槽的槽壁设有排水管，排水管与清洗槽内相连通，所述排水管上设有电磁阀，所述电磁阀与控制器连接。液位传感器检测到清洗槽内的清洗水达到设定的值时，就会向控制器发送动作信号，控制器控制电磁阀打开，从而将清洗槽内的水排出。

所述输送装置包括进水端与储水罐内部连通的抽水泵，抽水泵的出水端连接有出水管，其出水管的出水端位于旋转平台上方。

所述出水管的出水端连接有喷头。

所述旋转平台上端面周边设置有挡边，防止旋转平台上的硅片在旋转过程中，从旋转平台上滑落。

采用了上述方案，将需要清洗的硅片放置在旋转平台上，启动支架上的驱动电机工作带动旋转平台旋转，再有控制器控制抽水泵工作，将储水罐中的水抽出并输送到旋转平台的上方对硅片进行清洗。本发明结构简单，不需要频繁换水，能够对硅片进行彻底清洗，同时无需人工操作、提高了清洗效率。

附图说明

图1为本发明的结构示意图；

图中，1为清洗槽，2为储水罐，3为支架，4为驱动电机，5为转轴，6为旋转平台，7为挡边，8为液位传感器，9为控制器，10为排水管，11为电磁阀，12为抽水泵，13为出水管，14为喷头。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本发明进一步说明。

参见图1，一种硅片冲洗装置，包括清洗槽1、储水罐2、对储水罐中的水进行输送的输送装置，以及位于清洗槽上方的旋转装置，旋转装置包括支架3、固定设置在支架上的驱动电机4、固定连接在驱动电机输出轴上的转轴5，以及固定连接在转轴下端的旋转平台6，旋转平台位于清洗槽1内，输送装置的输出端位于旋转平台6的上方，在旋转平台上端面周边设置有挡边7。

其中，清洗槽内设置有对清洗槽内的水位进行检测的液位传感器8，液位传感器8与控制输送装置工作的控制器9连接，清洗槽的槽壁设有排水管10，排水管与清洗槽内相连通，所述排水管上设有电磁阀11，所述电磁阀11与控制器9连接。

其中，输送装置包括进水端与储水罐2内部连通的抽水泵12，抽水泵12的出水端连接有出水管13，其出水管13的出水端位于旋转平台6上方。出水管的出水端连接有喷头14。