[发明专利]一种大幅面激光雕刻的方法有效
申请号: | 201310268009.6 | 申请日: | 2013-06-28 |
公开(公告)号: | CN104249219B | 公开(公告)日: | 2017-09-26 |
发明(设计)人: | 韦黛瑛 | 申请(专利权)人: | 韦黛瑛 |
主分类号: | B23K26/362 | 分类号: | B23K26/362;B23K26/70 |
代理公司: | 上海光华专利事务所31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 200137 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 大幅面 激光雕刻 方法 | ||
1.一种大幅面激光雕刻的方法,其特征在于:包括下述工艺步骤:根据拟激光雕刻的大幅画面的幅度设置振镜的扫描幅度与宽度;利用振镜扫描器的高速特性,在振镜的有效工作范围内进行振镜左右幅度移动方向的连续扫描雕刻,同时振镜在平台的控制下连续运动以进行振镜前后移动方向的连续扫描雕刻,从而形成覆盖一整行的雕刻区域,接着扫描雕刻下一行,一直到整个图形扫描雕刻结束;振镜在扫描雕刻图形时,其本身一直在连续相对工件移动,当前扫描任务结束时,立即在下一个扫描区域开始扫描雕刻,实现不停顿连续扫描雕刻;其中,所述的振镜扫描,无固定阵列,随着硬件配置的不同,可调整扫描的幅度与宽度,扫描雕刻一行的宽度最大值只受振镜扫描幅度范围的限制,扫描宽度的最小值是一个激光雕刻点的大小。
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