[发明专利]校准设备和方法

说明书

本申请要求于2012年10月16日向韩国知识产权局提交的第10-2012-0114875号韩国专利申请的优先权，该专利申请的公开内容整个地通过引用并入本文。

技术领域

与示例性实施例一致的方法和设备涉及一种可通过使用光子计数X射线检测器来执行的校准方法。

背景技术

光子计数X射线检测器可针对每个光子能带分离施加于光子计数X射线检测器的X射线。

因为常规的积分式检测器将由施加于常规的积分式检测器的X射线光子产生的所有电信号相加，而不管光子能量如何，所以可能难以分离光子能量。

在用于光子计数检测器的能量校准的常规方法中，使用通过使用光子计数X射线检测器测量的X射线的光谱。

在这种常规方法中，可通过下述方式来获得X射线光谱，即，在按相等间隔改变阈值能量值的同时获得图像，并计算由阈值能量的改变引起的信号差。

在示例中，可通过下述方式来执行使用X射线的光谱的能量校准方案，即，将X射线管设置在预定的加速电压峰值千伏电压（kVp），在照射X射线的同时使用光子计数X射线检测器来测量X射线光谱，并将该光谱具有值“0”的位置映射到预定的加速电压。

然而，在这个示例中，因为难以精确地测量所述位置，所以映射的精确性可能降低。

在另一个示例中，可通过下述方式来执行能量校准方案，即，使具有吸收限的材料成像在所用的X射线能量区中，并将在获取的光谱中测量的吸收限的位置映射到实际材料的吸收限的能量。

然而，在这个示例中，由于对于吸收限的位置测量精确性的限制，因此通过使用光子计数X射线检测器测量的值的均匀性可能降低。

在又一个示例中，可通过下述方式来执行能量校准方案，即，在测量在放射性同位素中产生的X射线的同时获得光谱，并将同位素的预定能量映射到该光谱的峰值。

然而，在这个示例中，能量校准方案需要用于管理高放射性同位素的额外仪器。

发明内容

根据一个或多个示例性实施例，可提供一种校准设备，该校准设备包括：图像产生器，产生至少一个成像对象的图像；设置器，基于通过产生所述至少一个成像对象的图像而获得的结果来设置与电脉冲的幅值相关的阈值；校准器，映射并校准与至少一个校准对象的吸收限对应的光子能量。

所述至少一个成像对象可包括均质材料，并且所述至少一个成像对象的几何形状可被设置。

所述至少一个校准对象可包括这样的材料，该材料包括相应光子能量落在可测量的x射线光子能量的范围内的吸收限。

第一数量与第二数量的比率可反映所述至少一个成像对象的特性，其中，第一数量与关于所述至少一个成像对象不存在的情况的成像结果相关，第二数量与关于所述至少一个成像对象存在的情况的成像结果相关。

表示所述至少一个成像对象的图像的归一化强度可反映与所述至少一个成像对象的几何形状相关的信息。

设置器可设置与由x射线光子在至少一个像素中产生的电脉冲的幅值相关的阈值。

设置器可改变所述至少一个像素中的一个像素的归一化强度值，并可将改变的归一化强度值与另一像素的归一化强度值匹配。

设置器可将所述至少一个像素设置为相对于预先设置的阈值能量值具有相同的归一化强度。

校准器可计算第一数量与第二数量的比率，并可提取x射线明显衰减的位置，其中，第一数量与当所述至少一个成像对象不存在时测量的x射线光谱相关，第二数量与当所述至少一个成像对象存在时测量的x射线光谱相关。

所述至少一个校准对象的吸收限可包括用于在提取的x射线明显衰减的位置上形成所述至少一个校准对象的材料的吸收限。

根据一个或多个示例性实施例，可提供一种校准方法，该方法包括：产生至少一个成像对象的图像；基于通过产生所述至少一个成像对象的图像而获得的结果来设置与电脉冲的幅值相关的阈值；以及映射并校准与至少一个校准对象的吸收限对应的光子能量。

附图说明

从以下结合附图进行的对特定示例性实施例的详细描述中，示例性实施例的以上方面和其他方面将变得显然并且更容易理解，其中：

图1是示出根据一个或多个示例性实施例的施加于光子计数X射线检测器的X射线光子的能量与由该能量产生的电脉冲的幅值之间的关系的曲线图；

图2是示出根据一个或多个示例性实施例的校准设备的构造的框图；

图3是示出根据一个或多个示例性实施例的校准方法的流程图；

图4是示出通过使用图像产生器来产生对象的图像的示例的示图；