[发明专利]导模共振滤光片光刻胶层的优化方法

权利要求书

1.一种导模共振滤光片光刻胶层的优化方法，用于在制作导模共振滤光片的过程中调节滤光片反射光的波长和带宽，其特征在于，滤波片包括：

基底层、波导层、未感光光刻胶层以及光刻胶光栅层，

其中，所述未感光光刻胶层的厚度为200nm-1000nm，通过调节未感光光刻胶层的厚度，得到所需所述反射光波长的最优波长与带宽。

2.一种导模共振滤光片光刻胶层的优化方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1，将清洗好的K9玻璃基片通过热蒸发方式蒸镀一层氧化钛薄膜，通过所述氧化钛薄膜的透过光谱经Macleod软件计算出所述氧化钛薄膜的实际厚度以及折射率；

步骤2，根据所述折射率和所述厚度通过Gsolver软件设计出光栅周期和槽深；

步骤3，根据步骤2所设定的所述光栅周期，设定前烘参数、匀胶参数、后烘参数以及全息曝光参数，从而得到具有一定厚度的所述未感光光刻胶层的所述导膜共振滤光片。

3.如权利要求1或2所述的导模共振滤光片光刻胶层的优化方法，其特征在于：

匀胶参数包括：转速，加速度以及匀胶时间，通过调节匀胶的所述转速、所述加速度和所述匀胶时间来调节所述光刻胶的厚度，并在固定的显影条件下得到不同的所述未感光光刻胶厚度。

4.如权利要求2所述的一种导模共振滤光片光刻胶层的优化方法，其特征在于：

所述前烘参数为90℃，30分钟，所述匀胶参数为：700-2000转/分，加速度为800rad/s*s，所述后烘参数为：65℃，25分钟，所述曝光参数为：使用氪离子激光器，光强为150mw，时间为2分钟。