[发明专利]一种膜带连续单面化学镀装置及其方法

权利要求书

1.一种膜带连续单面化学镀装置，其特征在于：该装置由阻流搅拌辊（3）、承载平台（4）、导入辊（6）、导出辊（10）和镀液承接盘（7）组成，阻流搅拌辊（3）均匀分布在承载平台（4）上，导入辊（6）位于承载平台（4）前方，导出辊（10）位于承载平台（4）后方，镀液承接盘（7）位于承载平台（4）下方。

2.如权利要求1所述的一种膜带连续单面化学镀装置，其特征在于：镀液入口（2）位于第一根阻流搅拌辊的斜上方，镀液出口（5）位于最后一根阻流搅拌辊和承载平台（4）的后方。

3.如权利要求1所述的一种膜带连续单面化学镀装置，其特征在于：承载平台（4）两侧各有一根向上的挡液条（11）。

4.如权利要求1所述的一种膜带连续单面化学镀装置，其特征在于：承载平台（4）内部是中空的，可以通入液体。

5.一种膜带连续单面化学镀方法，其特征在于：膜带由导入辊引导到承载平台上，在承载平台上完成镀制工艺，再由导出辊导出；化学镀液由镀液入口流入承载平台的膜带上表面，形成液膜，最后由镀液出口流出，最后落入镀液承接盘中。

6.如权利要求5所述的一种膜带连续单面化学镀方法，其特征在于：承载平台内通热水，通过热水的温度控制镀液的温度。

7.如权利要求5所述的一种膜带连续单面化学镀方法，其特征在于：多根阻流搅拌辊来回滚动，起到控制液膜深度、流速和搅拌液膜的作用，使镀液沿膜带传输方向浓度梯度稳定，使化学镀均匀。

8.如权利要求5所述的一种膜带连续单面化学镀方法，其特征在于：挡液条使膜带紧贴承载平台表面，防止镀液溢出和流到膜带背面。