[发明专利]曝光机曝光能量的校正方法及应用其的曝光方法无效
申请号: | 201310184852.6 | 申请日: | 2013-05-17 |
公开(公告)号: | CN104166314A | 公开(公告)日: | 2014-11-26 |
发明(设计)人: | 张鸿明 | 申请(专利权)人: | 川宝科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 | 代理人: | 宋菲;刘云贵 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 能量 校正 方法 应用 | ||
1.一种曝光机曝光能量的校正方法,其特征在于,该曝光机具有多个供电装置、多个曝光装置及一承载台,这些供电装置分别与这些曝光装置电连接,该曝光机曝光能量的校正方法包含下列步骤:
A.提供一处理单元及多个光能量感测单元于该曝光机,这些供电装置及这些光能量感测单元电连接该处理单元;
B.使这些曝光装置分别与这些光能量感测单元相对,并使这些曝光装置分别对这些光能量感测单元投光;
C.使该处理单元记录这些曝光装置的投光能量,并计算出这些投光能量的最小值;以及
D.使该处理单元调整这些供电装置的供电量,以使这些曝光装置的投光能量的校正值相等且小于或等于该最小值。
2.如权利要求1所述的曝光机曝光能量的校正方法,其特征在于,这些光能量感测单元设置于该承载台。
3.如权利要求1所述的曝光机曝光能量的校正方法,其特征在于,这些光能量感测单元分别为紫外线传感器。
4.一种曝光机的曝光方法,其特征在于,应用如权利要求1至3中任一项所述的曝光机曝光能量的校正方法,该曝光机的曝光方法还包含下列步骤:
E.放置一感光电路板于该曝光机的承载台上;以及
F.使这些曝光装置与该感光电路板相对,并使这些曝光装置依照该校正值对该感光电路板曝光。
5.如权利要求4所述的曝光机的曝光方法,其特征在于,该步骤B及该步骤F中,这些曝光装置与这些光能量感测单元之间的距离,与这些曝光装置与该感光电路板之间的距离相等。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于川宝科技股份有限公司,未经川宝科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310184852.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:熔断器
- 下一篇:环胺化合物、组合物及由其制备的聚氨酯泡沫体