[发明专利]不良位置分析系统及方法

说明书

技术领域

本发明涉及不良位置分析系统及方法。

背景技术

当前，包括专利文献1在内，在对印刷电路基板的制造时产生的各种不良进行检查的多种阶段性检查工序中，空间性图案分析与制造工序或设备的特定问题具有密切的相关关系，因此可以说迅速地解决制造工序的问题是核心的部分。

此外，由于产品的设计难易度提高且产品的使用寿命缩短，因此实际情况是，与产品的设计相关联，掌握并提高工序能力的技术的重要性备受瞩目。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：美国公开专利2011-0140105A。

发明内容

发明要解决的问题

本发明是为了解决前述的现有技术的问题而提出的，本发明的一个侧面关于：通过在设计数据中反映不良信息，从而使得在印刷电路基板的制造工序时能进行更系统的不良信息应用的不良位置分析系统及方法。

用于解决问题的方案

本发明实施例的不良位置分析系统包括：对包括设计数据和产品信息在内的与不良位置分析系统相关联的信息进行储存的数据库；收集面板（Panel）基准不良坐标的数据收集部；以及利用所述设计数据和坐标变换基准将从所述数据收集部收集的所述面板基准不良坐标变换为各对象不良坐标、并储存在所述数据库中的坐标变换部，所述对象可以所述包括印刷电路基板的块（Piece）、包括多个所述块的片（Sheet）。

本发明其它实施例的不良位置分析系统的设计数据可以包括面板（Panel）内的片排列信息、片轮廓坐标、面板内的块排列信息、块轮廓坐标、块内部符号以及特征（Feature）信息。

本发明其它实施例的不良位置分析系统的面板基准不良坐标包括识别号码，所述坐标变换部可以基于所述产品信息掌握与所述面板基准不良坐标的识别号码相匹配的型号信息，提取所掌握的型号信息的设计数据，利用所提取的设计数据和所述面板基准不良坐标以及坐标变换基准将所述面板基准不良坐标变换为各对象不良坐标。

本发明其它实施例的不良位置分析系统的数据库可以储存坐标形态的设计数据，所述坐标变换部可以利用设计数据掌握面板内的基准片的原点，基于所述面板内的片的排列信息掌握各片的原点，利用片的排列旋转角度和片的轮廓坐标算出面板内的片的轮廓坐标，并储存在所述数据库中。

本发明其它实施例的不良位置分析系统，在将面板基准不良坐标变换为片基准不良坐标的情况下，所述坐标变换部可以掌握与所述面板基准不良坐标相匹配的不良片，根据所述各片的原点掌握所述不良片的原点，从所述面板基准不良坐标减去所掌握的不良片的原点，算出面板内的片基准不良坐标。

本发明其它实施例的不良位置分析系统的块轮廓坐标可以包括开始点、经由点以及结束点，所述坐标变换部可以基于所述设计数据的块轮廓坐标识别块的外轮廓线，掌握已掌握的块单位不良坐标以所述块的外轮廓线为基准是位于块内还是位于块外，并储存在所述数据库中。

本发明其它实施例的不良位置分析系统的数据库可以储存坐标形态的设计数据，所述坐标变换部可以利用设计数据掌握面板内的基准块的原点，基于所述面板内的块的排列信息掌握各块的原点，利用块的排列旋转角度和块的轮廓坐标算出面板内的块的轮廓坐标，并储存在所述数据库中。

本发明其它实施例的不良位置分析系统，在将面板基准不良坐标变换为块基准不良坐标的情况下，所述坐标变换部可以掌握与面板基准不良坐标相匹配的不良块，根据所述各块的原点掌握所述不良块的原点，从所述面板基准不良坐标减去所掌握的不良块的原点，算出面板内的块基准不良坐标。

本发明其它实施例的不良位置分析系统的数据收集部可以收集片基准不良坐标，所述坐标变换部可以将经由所述数据收集部传递的片基准不良坐标变换为以面板的原点为基准的面板基准不良坐标或以块的原点为基准的块基准不良坐标。

本发明其它实施例的不良位置分析系统，还可以包括基于储存在所述数据库中的各对象不良坐标，根据用户的要求生成并提供各区域不良坐标或各区域不良统计信息的监视部。

本发明其它实施例的不良位置分析系统的设计数据可以包括面板（Panel）内的片排列信息、片轮廓坐标、面板内的块排列信息、块轮廓坐标、块内部符号以及特征（Feature）信息，所述监视部可以以已储存的面板单位不良坐标、片单位不良坐标、块单位不良坐标、面板的外轮廓线、片的外轮廓线以及块的外轮廓线为基准，基于块内外不良坐标在所述设计数据上输出不良坐标位置。

本发明其它实施例的不良位置分析系统还可以包括在所述不良位置分析系统上输出对用户进行显示的信息的输出部。