[发明专利]不良位置分析系统及方法有效

专利信息
申请号: 201310162917.7 申请日: 2013-05-06
公开(公告)号: CN103793544B 公开(公告)日: 2017-04-12
发明(设计)人: 郭庆植;朴柱成 申请(专利权)人: 三星电机株式会社
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司11283 代理人: 陈潇潇,肖冰滨
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 不良 位置 分析 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种不良位置分析系统,其中,该不良位置分析系统包括:对包括设计数据和产品信息在内的与不良位置分析系统相关联的信息进行储存的数据库;收集面板基准不良坐标的数据收集部;以及利用所述设计数据和坐标变换基准将从所述数据收集部收集的所述面板基准不良坐标变换为各对象不良坐标并储存在所述数据库中的坐标变换部,所述对象包括所述印刷电路基板的块和包括多个所述块的片。

2.根据权利要求1所述的不良位置分析系统,其中,所述设计数据包括面板内的片排列信息、片轮廓坐标、面板内的块排列信息、块轮廓坐标、块内部符号以及特征信息。

3.根据权利要求2所述的不良位置分析系统,其中,所述面板基准不良坐标包括识别号码,所述坐标变换部基于所述产品信息掌握与所述面板基准不良坐标的识别号码相匹配的型号信息、提取所掌握的型号信息的设计数据、利用所提取的设计数据和所述面板基准不良坐标以及所述坐标变换基准将所述面板基准不良坐标变换为各对象不良坐标。

4.根据权利要求3所述的不良位置分析系统,其中,所述数据库储存坐标形态的设计数据,所述坐标变换部利用所述设计数据掌握面板内的基准片的原点、基于所述面板内的片的排列信息掌握各片的原点、利用片的排列旋转角度和片的轮廓坐标算出面板内的片的轮廓坐标并储存在所述数据库中。

5.根据权利要求4所述的不良位置分析系统,其中,在将所述面板基准不良坐标变换为片基准不良坐标的情况下,所述坐标变换部掌握与所述面板基准不良坐标相匹配的不良片、根据所述各片的原点掌握所述不良片的原点、从所述面板基准不良坐标减去所掌握的不良片的原点、算出面板内的片基准不良坐标。

6.根据权利要求2所述的不良位置分析系统,其中,所述块轮廓坐标包括开始点、经由点以及结束点。

7.根据权利要求1所述的不良位置分析系统,其中,所述坐标变换部基于所述设计数据的块轮廓坐标识别块的外轮廓线、掌握已掌握的块单位不良坐标以所述块的外轮廓线为基准是位于块内还是位于块外并储存在所述数据库中。

8.根据权利要求3所述的不良位置分析系统,其中,所述数据库储存坐标形态的设计数据,所述坐标变换部利用设计数据掌握面板内的基准块的原点、基于所述面板内的块的排列信息掌握各块的原点、利用块的排列旋转角度和块的轮廓坐标算出面板内的块的轮廓坐标并储存在所述数据库中。

9.根据权利要求8所述的不良位置分析系统,其中,在将所述面板基准不良坐标变换为块基准不良坐标的情况下,所述坐标变换部掌握与面板基准不良坐标相匹配的不良块、根据所述各块的原点掌握所述不良块的原点、从所述面板基准不良坐标减去所掌握的不良块的原点、算出面板内的块基准不良坐标。

10.根据权利要求1所述的不良位置分析系统,其中,所述数据收集部收集片基准不良坐标,所述坐标变换部将经由所述数据收集部传递的片基准不良坐标变换为以面板的原点为基准的面板基准不良坐标或以块的原点为基准的块基准不良坐标。

11.根据权利要求1所述的不良位置分析系统,其中,该不良位置分析系统还包括基于储存在所述数据库中的各对象不良坐标、根据用户的要求生成并提供各区域不良坐标或各区域不良统计信息的监视部。

12.根据权利要求11所述的不良位置分析系统,其中,所述设计数据包括面板内的片排列信息、片轮廓坐标、面板内的块排列信息、块轮廓坐标、块内部符号以及特征信息,所述监视部以已储存的面板单位不良坐标、片单位不良坐标、块单位不良坐标、面板的外轮廓线、片的外轮廓线以及块的外轮廓线为基准,基于块内外不良坐标在所述设计数据上输出不良坐标位置。

13.根据权利要求11所述的不良位置分析系统,其中,该不良位置分析系统还包括在所述不良位置分析系统上输出对用户进行显示的信息的输出部。

14.根据权利要求13所述的不良位置分析系统,其中,所述监视部按不良坐标将不良个数区分为色相并经由所述输出部进行输出。

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