[发明专利]耐高温太阳能选择性吸收镀层及其制备方法

权利要求书

1.一种耐高温太阳能选择性吸收镀层，包括以金属/玻璃成型材料基所作的所述镀层的载体，其特征在于：在以金属/玻璃成型材料基所作的所述镀层载体的一侧表面，由内到外依次有金属底层（1），钛-氮化钛第一防扩散层（2），氮铝化钛高填充因子吸收层（3），氮铝化钛低填充因子吸收层（4），钛-氮化钛第二防扩散层（5）和氮化铝减反射层（6）。

2.根据权利要求1所述的耐高温太阳能选择性吸收镀层，其特征在于：所述金属底层（1）是铜膜层或银膜层。

3.根据权利要求1所述的耐高温太阳能选择性吸收镀层，其特征在于：金属底层（1）的厚度在100~150nm范围内；钛-氮化钛第一防扩散层（2）的厚度在30~50nm范围内；氮铝化钛高填充因子吸收层（3）的厚度在50~80nm范围内；氮铝化钛低填充因子吸收层（4）的厚度在75~120nm范围内；钛-氮化钛第二防扩散层（5）的厚度在15~30nm范围内；氮化铝减反射层（6）的厚度在75~100nm范围内。

4.一种制备如权利要求1所述的耐高温太阳能选择性吸收镀层的方法，以真空磁控溅射镀膜机为加工设备，以清洁金属/玻璃成型材料基为所述镀层载体，其特征在于，所述制备方法依次按照如下步骤连续进行：

a，将金属/玻璃成型材料基置入所述镀膜机腔体内，在氩气气氛中，开金属靶，溅射沉积金属底层（1），直至所需厚度；其工艺策略是：氩气流量90-110SCCM，金属靶电流38-40A，溅射电压350-400V，维持腔体真空度2.5×10^-1pa；

b，采用Ti靶在氩气、氮气的混合气体中反应溅射，在金属底层（1）上沉积钛-氮化钛第一防扩散层（2），直至所需厚度；其工艺策略是：氩气流量90-110sccm，氮气流量70-90sccm，Ti靶电流40-45A，溅射电压400-420V，维持腔体真空度2.5×10^-1pa；

c，采用Ti靶、Al靶在氩气、氮气的混合气体中反应溅射，在第一防扩散层（2）上沉积氮铝化钛（3）高填充因子吸收层（3），直至所需厚度，其工艺策略是；氩气流量90-110sccm，氮气流量100-140sccm，Ti靶电流40-42A，溅射电压410-430V，Al靶电流40-42A，溅射电压400-410V，维持腔体真空度2.5×10^-1pa；

d，采用Ti靶、Al靶在氩气、氮气的混合气体中反应溅射，在高填充因子吸收层（3）上沉积氮铝化钛低填充因子吸收层（4），直至所需厚度，其工艺策略是；氩气流量90-110sccm，氮气流量100-140sccm，Ti靶电流15-18A，溅射电压380V-400V，Al靶电流40-42A，溅射电压360-380V，维持腔体真空度2.5×10^-1pa；

e，采用Ti靶在氩气、氮气的混合气体中反应溅射，在氮铝化钛低填充因子吸收层（4）上沉积钛-氮化钛第二防扩散层（5），直至所需厚度，其工艺策略是：氩气流量90-110sccm，氮气流量70-90sccm，Ti靶电流40-45A，溅射电压400-420V，维持腔体真空度2.5×10^-1pa；

f，采用Al靶在氩气、氮气的混合气体中反应溅射，在钛-氮化钛第二防扩散层（5）上沉积氮化铝减反层（6），直至所需厚度；其工艺策略是：氩气流量90-110sccm，氮气流量90-100sccm，Al靶电流40-42A，溅射电压310-330V，维持腔体真空度2.5×10^-1pa。

5.根据权利要求4所述的耐高温太阳能选择性吸收镀层的制备方法，其特征在于：所述各个步骤的溅射时间由所需镀层厚度决定，而其镀层厚度每10nm的溅射时间，控制在0.5~1min范围内。