[发明专利]阵列基板、液晶盒及显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种阵列基板、液晶盒及显示装置。

背景技术

现有技术中，为了实现扭曲向列显示（Twisted Nematic，TN）的半透过模式，通常应用双盒厚（dual gap）的液晶盒。如图1所示，该双盒厚的液晶盒通常包括：阵列基板101、彩膜基板102、下偏光片103及上偏光片104，阵列基板101和彩膜基板102之间为液晶层。该液晶盒中每个像素单元分成反射区域A和透射区域B，反射区域A设有反射片106以反射光线。在双盒厚（dual gap）的液晶盒中，通常采用树脂（Resin）层105垫高反射片106的方式形成反射区域A，使反射区域A的液晶盒厚度（厚度为d/2）为透射区域B的液晶盒厚度（厚度为d）的一半，以达到两个区域有相同的光程，从而实现TN半反半透显示模式。

上述应用树脂层105来形成反射区域A和透过区域B的盒厚（Cell Gap）差。该情况下，需要追加Resin mask的工序，其制作工序相对复杂，并且为了使反射区域A和透过区域B的光程保持一致，需在下偏光片103和上偏光片104中或是在树脂层105表面设置λ/4补偿层（图中未示出），按RGB各波长带的不同对应的补偿程度也不同。按照上述设置树脂层105以及λ/4补偿层的结构来实现半透半反，会使得半透半反的显示器的制作工序和成本增加。

发明内容

（一）要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是：如何节省半反半透式显示装置的成本及制作工序。

（二）技术方案

为解决上述技术问题，本发明提供了一种阵列基板，所述阵列基板上还形成有反射层，所述反射层之上形成有广域λ/4补偿层。

其中，所述广域λ/4补偿层包括依次形成在所述反射层之上的λ/4补偿膜及λ/2补偿膜。

其中，所述λ/4补偿膜的透过轴与阵列基板上取向层的取向方向的夹角为75°，所述λ/2补偿膜的透过轴与阵列基板上取向层的取向方向的夹角为15°。

其中，λ/4补偿膜和λ/2补偿膜采用反应型液晶材料制作。

本发明还提供了一种显示装置，包括如上述任一项所述的阵列基板。

本发明还提供了一种液晶盒，由下至上包括：阵列基板、液晶层及与阵列基板相对的对向基板，所述阵列基板上还形成有反射层，所述反射层之上形成有广域λ/4补偿层。

其中，所述广域λ/4补偿层包括依次形成在所述反射层之上的λ/4补偿膜及λ/2补偿膜。

其中，所述λ/4补偿膜的透过轴与靠近阵列基板的液晶初始取向方向的夹角为75°，所述λ/2补偿膜的透过轴与靠近阵列基板的液晶初始取向方向的夹角为15°。

其中，λ/4补偿膜和λ/2补偿膜采用反应型液晶材料制作。

本发明还提供了一种显示装置，包括上述任一项所述的液晶盒。

（三）有益效果

本发明通过在阵列基板上对应的反射区域直接设置反射层，并在反射层上设置广域λ/4补偿层，不但达到了较好的显示效果，而且避免了在阵列基板上形成树脂层垫高及上下偏光片上制作广域λ/4补偿层的步骤，从而节省了制作工序及成本。而且能够实现单盒厚度的液晶盒。

附图说明

图1是现有的半反半透式液晶盒结构示意图；

图2是本发明实施例的一种阵列基板结构示意图；

图3是本发明实施例的一种液晶盒的结构示意图；

图4是光线经过由图2中阵列基板或图3中液晶盒形成的显示装置的透射区光的偏振角度变化示意图；

图5是光线经过由图2中阵列基板或图3中液晶盒形成的显示装置的反射区光的偏振角度变化示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。

如图2所示，为本发明实施例的阵列基板结构示意图，该阵列基板包括：衬底201及在衬底201上形成的像素阵列层202。为了实现半反半透显示，在阵列基板上对应预先设定的反射区域A还形成有反射层203。本实施例中，反射层203直接覆盖于像素阵列层202的之上，之间不需要树脂层垫高。反射层203之上还形成有广域λ/4补偿层，本实施例中，广域λ/4补偿层包括依次形成在反射层203之上的λ/4补偿膜204及λ/2补偿膜205。