[发明专利]基于自回归全潜结构投影模型的产品质量监测方法无效

专利信息
申请号: 201310106569.1 申请日: 2013-03-28
公开(公告)号: CN103245759A 公开(公告)日: 2013-08-14
发明(设计)人: 文成林;苑天琪 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: G01N33/00 分类号: G01N33/00;G06F19/00
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 杜军
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 基于 回归 结构 投影 模型 产品质量 监测 方法
【权利要求书】:

1. 基于自回归全潜结构投影模型的产品质量监测方法,其特征在于:

设输入矩阵                                               ,由N个样本组成,每个样本包含n个过程变量;输出矩阵同样由N个样本构成,每个样本由m个质量变量构成;由于质量变量的变化通常由过程变量所引起,故X与Y之间存在一定的相关关系, X与Y可被描述如下

                      (1)

其中代表X和Y相关信息的回归系数矩阵,代表能够由X所解释的质量变量的变化,代表不能由X所解释的部分,且满足

                      (2)

这里和分别是X和的行向量;

由于

                    (3)

因而,可以直接求出

                         (4)

上式中,是的伪逆;

这样可计算出与X有关的质量变量的变化

                               (5)

若要对质量变量进行在线检测,可直接对进行在线监控,即首先利用训练数据建立Y的预测值的主元模型,再利用在线测得的过程数据对Y进行预测,将预测值投影到主元子空间和残差子空间中;分解如下

                       (6)

上式中是得分矩阵,是载荷矩阵,B是主元个数,主元个数由交叉验证法来确定;衡量了能由过程变量所解释的部分中方差变化较大的部分,适合用统计量来监测,而衡量了能由过程变量所解释的部分中方差变化较小的部分,适合用Q统计量来监测,反映了与过程变量无关的残差部分如传感器变化等,常被用作对质量指标的离线分析;

监测质量变量中与X有关的变化就等效于监测过程变量中与Y有关的变化,同样可以监测过程变量中与Y无关的变化,此时可利用空间投影的思想把X投影到一个由直接决定的少数潜变量(t1,t2,…tp)构成的低维空间中,为潜变量的个数,分解如下

                         (7)

代表与Y有关的部分,代表与Y无关的部分;对进行PCA分解

                                 (8)

结合式(6),X,Y可以写成如下形式

                             (9)

在此基础上,通过建立故障检测统计量,将实现对质量变量和与质量变量无关的过程变量同时在线监测,当新数据x到来时,分解如下

其中

表示过程和质量无关的变化中方差较大的部分,表示质量和过程有关的变化中方差较大的部分,均适合用来监控,相对的,和适合用Q统计量来监控;建立和SPE统计量

                         (10)

上式中,,和用来监控过程中与Y无关的故障,和用来监控与Y有关的故障。

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