[发明专利]基于自回归全潜结构投影模型的产品质量监测方法无效
申请号: | 201310106569.1 | 申请日: | 2013-03-28 |
公开(公告)号: | CN103245759A | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | 文成林;苑天琪 | 申请(专利权)人: | 杭州电子科技大学 |
主分类号: | G01N33/00 | 分类号: | G01N33/00;G06F19/00 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 杜军 |
地址: | 310018 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 回归 结构 投影 模型 产品质量 监测 方法 | ||
1. 基于自回归全潜结构投影模型的产品质量监测方法,其特征在于:
设输入矩阵 ,由N个样本组成,每个样本包含n个过程变量;输出矩阵同样由N个样本构成,每个样本由m个质量变量构成;由于质量变量的变化通常由过程变量所引起,故X与Y之间存在一定的相关关系, X与Y可被描述如下
(1)
其中代表X和Y相关信息的回归系数矩阵,代表能够由X所解释的质量变量的变化,代表不能由X所解释的部分,且满足
(2)
这里和分别是X和的行向量;
由于
(3)
因而,可以直接求出
(4)
上式中,是的伪逆;
这样可计算出与X有关的质量变量的变化
(5)
若要对质量变量进行在线检测,可直接对进行在线监控,即首先利用训练数据建立Y的预测值的主元模型,再利用在线测得的过程数据对Y进行预测,将预测值投影到主元子空间和残差子空间中;分解如下
(6)
上式中是得分矩阵,是载荷矩阵,B是主元个数,主元个数由交叉验证法来确定;衡量了能由过程变量所解释的部分中方差变化较大的部分,适合用统计量来监测,而衡量了能由过程变量所解释的部分中方差变化较小的部分,适合用Q统计量来监测,反映了与过程变量无关的残差部分如传感器变化等,常被用作对质量指标的离线分析;
监测质量变量中与X有关的变化就等效于监测过程变量中与Y有关的变化,同样可以监测过程变量中与Y无关的变化,此时可利用空间投影的思想把X投影到一个由直接决定的少数潜变量(t1,t2,…tp)构成的低维空间中,为潜变量的个数,分解如下
(7)
代表与Y有关的部分,代表与Y无关的部分;对进行PCA分解
(8)
结合式(6),X,Y可以写成如下形式
(9)
在此基础上,通过建立故障检测统计量,将实现对质量变量和与质量变量无关的过程变量同时在线监测,当新数据x到来时,分解如下
其中
表示过程和质量无关的变化中方差较大的部分,表示质量和过程有关的变化中方差较大的部分,均适合用来监控,相对的,和适合用Q统计量来监控;建立和SPE统计量
(10)
上式中,,和用来监控过程中与Y无关的故障,和用来监控与Y有关的故障。
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