[发明专利]一种场发射平面光源及其制备方法

权利要求书

1.一种场发射平面光源，包括阳极、聚焦极、栅极、阴极和隔离体，所述阳极、聚焦极、栅极、阴极和隔离体形成一真空密封的腔体，其特征在于，

所述阳极依次包括阳极基板、阳极导电层和发光层；

所述隔离体包括隔离主体和侧壁支撑体，所述隔离主体开设有一漏斗状通孔，所述隔离主体的大开口端与所述发光层相接，小开口端通过所述侧壁支撑体与所述聚焦极相接；

所述聚焦极开设能使电子聚焦的聚焦通孔；

所述栅极开设能使由阴极发射的电子通过的栅极通孔，所述栅极通过侧壁支撑体夹心设置在所述聚焦极与所述阴极之间；

所述阴极依次包括阴极发射体、阴极导电层和阴极基板，所述阴极发射体为片状纳米薄膜层，所述阴极发射体平铺设置在所述阴极导电层上表面。

2.如权利要求1所述的一种场发射平面光源，其特征在于，所述聚焦通孔包括导电平板和设置在所述导电平板上方的突起，所述聚焦通孔贯穿所述导电平板和所述突起并在在所述突起顶端具有最小处的直径。

3.如权利要求2所述的一种场发射平面光源，其特征在于，所述隔离主体小开口端开口口径小于或等于所述聚焦通孔最小处的孔径。

4.如权利要求1所述的一种场发射平面光源，其特征在于，所述阴极发射体与所述栅极通孔、所述聚焦极通孔和所述隔离主体漏斗状通孔处于同一轴线位置。

5.如权利要求1所述的一种场发射平面光源，其特征在于，所述阳极基板的材质为玻璃，所述阳极导电层为金属铝、金或银层，或者铟锡氧化物层，所述发光层为可激发出波长为420nm～480nm蓝光的荧光粉层。

6.如权利要求1所述的一种场发射平面光源，其特征在于，所述隔离体的材质为陶瓷、玻璃或碳化硼。

7.如权利要求1所述的一种场发射平面光源，其特征在于，所述聚焦极和/或栅极的材质为铜。

8.如权利要求1所述的一种场发射平面光源，其特征在于，所述阴极基板的材质为玻璃，所述阴极导电层为金属铝、金或银层，或者铟锡氧化物层，所述阴极发射体的材质为碳纳米管。

9.如权利要求1所述的一种场发射平面光源，其特征在于，所述阴极导电层上表面平铺设置阴极发射体的区域与所述栅极通孔的形状均为圆形，所述区域的直径等于所述栅极通孔的口径。

10.一种场发射平面光源的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

在阳极基板上采用制备阳极导电层，然后在所述阳极导电层表面设置发光层，得到阳极；

在阴极基板上设置阴极导电层，然后在所述阴极导电层表面平铺设置阴极发射体，所述阴极发射体为片状纳米薄膜层，得到阴极；

采用绝缘材料制作隔离体，所述隔离体包括隔离主体和侧壁支撑体，所述隔离主体开设有一漏斗状通孔；

制备开设有能使电子聚焦的聚焦通孔的聚焦极；

制备开设有能使由阴极发射的电子通过的栅极通孔的栅极；

将所述阳极、聚焦极、栅极、阴极和隔离体进行组装，所述隔离主体的大开口端与所述发光层相接，小开口端通过所述侧壁支撑体与所述聚焦极相接，所述栅极通过侧壁支撑体夹心设置在所述聚焦极与所述阴极之间，所述阳极、聚焦极、栅极、阴极和隔离体组装形成一腔体，真空密封所述腔体，制得场发射平面光源。