[发明专利]一种中阶梯光栅的复制方法

权利要求书

1.一种基于母光栅和毛坯复制中阶梯光栅的复制方法，其特征在于，包括以下步骤：

a.将清洁处理好的所述母光栅装在真空镀膜机的蒸发室的工具架上，通过毛细吸管定标精确控制硅油的用量，在第一电极上加上所述硅油，在第二电极上加上铝丝，将蒸发电极的位置改到所述真空镀膜机底板中间，通过标定确定修正板的形状与位置，并安装晶控膜厚监测仪；

b. 镀油：关闭蒸发室抽高真空，当达到第一真空度时，缓慢增加蒸发电流对所述母光栅进行镀油，得到已镀油母光栅；

c. 镀铝：油镀好后继续抽真空，当达到第二真空度时，缓慢增加蒸发电流对所述已镀油母光栅进行镀铝，采用晶控膜厚检测仪来控制所镀铝层的厚度，得到已镀铝母光栅；

d. 将所述已镀铝母光栅送入烘箱中，在一定温度下保温一段时间；

e.去气泡：将胶粘剂放到所述真空镀膜机中，首先抽低真空一段时间，接着用离子源轰击所述胶粘剂，然后抽高真空一段时间，接着将处理完成的胶粘剂放到烘箱中，在所述一定温度下预热，得到预热完成的胶粘剂；

f. 粘结：将所述预热完成的胶粘剂滴到所述已镀铝母光栅表面，再将已清洁处理好的所述光栅毛坯压到所述已镀铝母光栅上，接着将压块压到所述光栅毛坯上，并一起送入到烘箱中于所述一定温度下保温一定时间；

g.关闭烘箱，当温度降至室温后，将所述母光栅和所述压块移除，得到所述中阶梯光栅；

h．当所述母光栅有小平面时，再以第一次复制得到的所述复制光栅作为母板，重复步骤a、b、c、d、f、g，进行第二次复制，可以得到槽面有小平面的中阶梯光栅。

2.根据权利要求1所述的中阶梯光栅的复制方法，其特征在于，在步骤a中：所述母光栅清洁处理方法为用皮吹风吹掉所述母光栅表面的灰尘，所述硅油为5.25毫克，所述第一电极为一根，所述第二电极为两根，在每个所述第二电极上都加上一根所述铝丝。

3.根据权利要求1所述的中阶梯光栅的复制方法，其特征在于，在步骤b中：所述第一真空度为8*10^-3P_a，所述蒸发电流加到50A。

4.根据权利要求1所述的对中阶梯光栅的复制方法，其特征在于，在步骤c中：所述第二真空度为1*10^-3P_a，镀铝时先镀所述第二电极上的一根铝丝，当镀完一根铝丝后，接着抽真空一段时间，真空度再次回到所述第二真空度后，接着镀所述第二电极上的第二根铝丝，所述已镀铝母光栅的铝层的厚度为100-120nm，其误差在5nm以下。

5.根据权利要求1所述的对中阶梯光栅的复制方法，其特征在于，在步骤d中：所述一定温度为60℃，所述一段时间为30分钟。

6.根据权利要求1所述的对中阶梯光栅的复制方法，其特征在于，在步骤e中：所述轰击电流为100mA，所述抽低真空和抽高真空的时间都为7-8分钟。

根据权利要求1所述的对中阶梯光栅的复制方法，其特征在于，在步骤f中：所述光栅毛坯的清洁方法为：先用碳酸钙擦洗，再用自来水冲洗，最后用酒精乙醚混合液擦干净，所述一定的加压压力为每平方厘米50克，所述一定时间为4小时。