[发明专利]基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法

权利要求书

1.一种基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一、施工竖井，并在所述竖井下端部侧向开马头门，同时沿所述马头门开挖横通道；

步骤二、在所述横通道内设置二衬结构至所述横通道的顶拱拱脚处，在所述顶拱拱脚处水平设置有二衬顶板，往所述二衬顶板与所述拱顶围合形成的拱顶腔体内回填混凝土；

步骤三、根据设计要求，在所述二衬顶板上方预留上盖物业基坑的围护结构的实施条件；

步骤四、完成所述横通道的其他区间施工工作。

2.如权利要求1所述的基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法，其特征在于：所述横通道上设置有初衬结构，由所述横通道内部朝预留所述围护结构的实施条件的上方径向注浆后局部破除所述初衬结构。

3.如权利要求1所述的基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法，其特征在于：在所述横通道内处于所述二衬顶板下方的位置还水平设置有二衬隔板，在完成步骤四后，再往所述二衬顶板、所述二衬隔板及横通道内侧壁围合形成的腔体内填充素土。

4.如权利要求1或2所述的基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法，其特征在于：步骤三所述围护结构的实施条件为在所述二衬顶板上方预留用于所述围护结构插设的0.8-1.0m宽的安装槽。