[发明专利]一种用于浸没式光刻的浸液温控系统

权利要求书

1.一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，通过其获得具有稳定温度的浸液，以用于浸没式光刻工艺中，其特征在于，该温控系统包括：

用于浸液流动的浸液管路，待温控的浸液通过管路进口进入该浸液管路，温控后的浸液通过该浸液管路出口输出；

用于对所述浸液进行冷却的工艺冷却液回路，工艺冷却液在该回路中循环流动；以及

热交换器（6），所述浸液管路和工艺冷却液回路同时流经该热交换器（6），利用该热交换器（6）完成工艺冷却液和浸液的热交换，获得具有稳定温度的浸液，实现对浸液的温度控制。

2.根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，其特征在于，所述浸液管路出口前设置有分支管路，经温度控制的浸液一部分通过该出口输出用于浸没式光刻工艺中，另一部分通过该分支管路重新进入浸液管路与热交换前的浸液混合。

3.根据权利要求1或2所述的一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，其特征在于，所述工艺冷却液回路上在所述热交换器（6）前设置有电液伺服阀（9），用于控制流经该热交换器的工艺冷却液流量，从而实现对浸液温度的精确控制。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，其特征在于，所述浸液管路上设置有温度传感器（12），用于检测经热交换后的浸液温度，其与一控制所述电液伺服阀（9）的温度控制器（3）连接，所述温度传感器（12）检测的温度值反馈给温度控制器（3），以作为反馈值用于该温度控制器（3）控制所述电液伺服阀（9）对工艺冷却水进行流量，实现精确的温度控制。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，其特征在于，所述工艺冷却液回路上设置有冷却液产生装置（2），用于产生所述工艺冷却液。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，其特征在于，所述热交换器可以为多个，各热交换器（6,7,8）依次设置，所述浸液管路和工艺冷却液回路同时依次流经各个热交换器（6,7,8），进行多次换热。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，其特征在于，所述热交换器为两个或三个。

8.根据权利要求6或7所述的一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，其特征在于，所述电液伺服阀和温度传感器均为与热交换器对应的多个，各电液伺服阀（9、10、11）分别设置在与之对应的热交换器（6、7、8）前的工艺冷却液回路上，各温度传感器（12、13、14）分别设置在与之对应的热交换器（6、7、8）后的浸液管路上，且每个电液伺服阀（9、10、11）和温度传感器（12、13、14）均通过一个对应的温度控制器（3、4、5）进行控制，实现各温度控制器（3、4、5）控制对应的电液伺服阀（9、10、11）对工艺冷却液流量进行多级控制，实现多级温度控制。

9.根据权利要求1-8中任一项所述的一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，其特征在于，所述工艺冷却液为水。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，其特征在于，所述浸液为超纯水。