[发明专利]一种微纳米生产粉尘泄露源的同位素法定位检测方法

说明书

 

技术领域

本发明涉及一种微纳米生产粉尘泄露源的同位素法定位检测方法，特别是一种针对微米纳米粉体生产线上粉尘泄漏的检测方法，以及一种利用碳-14同位素定位生产粉尘泄漏源的检测方法，以及一种对粉体产品进行同位素标记和泄漏检测的方法。

背景技术

管道泄漏检测的方法大致可以分成以下四类：第一类是基于人工巡检法，由有经验的技术人员携带检测仪器设备或经过训练的动物分段对管道进行泄漏检测和定位。这类方法具有定位精确度高和较低的误报率的特点，但对生产线管道上细微粉尘的泄漏和肉眼无法涉及的位置泄漏都难以发现的缺点。

第二类是基于超生、磁通、摄像等技术的管内检漏法（如管内探测球PIG），这类方法具有定位精确度高和较低的误报率的特点。但由于探测球在管内随介质漂流，容易发生堵塞、停运等事故，并且探测球比较昂贵，运行成本较高。

第三类是基于电缆检漏法，目前使用的电缆主要有油溶性电缆、渗透性电缆、分布式传感器电缆三种，电缆与管道平行铺设，当泄漏的物质渗入电缆后，会引起电缆特征的变化，以此来实现对泄漏的检测和定位。这类方法非常灵敏，对于小漏和缓慢泄漏均有较好的效果，但电缆价格和施工费用都较高，电缆一旦沾染上泄漏物后就要进行更换，它多用于液态烃类燃料的泄漏检测，不适合于对粉尘泄漏的检测。

第四类方法是放射性同位素法，即使用对人体没有危害的放射性气体进行检漏。用混入少量放射性气体的空气，将试验容器加压。如有泄漏，放射性气体就会随空气一起漏出。用闪烁计数管等检测射线，从而可以知道泄漏地点和大致的泄漏量。检测时，如果一边移动计数管，一边寻找最大计数的位置和方向，就可以准确地判断出泄漏位置。这类方法一般只针对气体泄漏的检测，目前技术中对粉尘泄漏具有不完全的适用性，还没有应用于粉尘泄漏的检测。

 

发明内容

本发明的目的在于提供一种微纳米生产粉尘泄露源的同位素法定位检测方法，可准确定位各种复杂微纳米粉尘生产线上粉尘泄漏源位置，并可检测生产区域3维空间中粉尘浓度的分布情况。

本发明主要针对微米纳米粉体生产线上粉尘泄漏源的同位素检测方法，主要包括同位素标记化合物与粉体表面活性剂的均匀混合，半成品粉体的表面改性，同位素标记改性后粉体的生产，生产过程中放射性粉尘的浓度检测，生产区域粉尘浓度的空间分布图绘制等环节。

本发明的技术方案是：一种微纳米生产粉尘泄漏源的同位素检测方法，具体步骤如下：

步骤1：以同位素标记多肽代替表面改性剂中的一部分多肽，并与表面改性剂中其他成分均匀混合。

步骤2：利用含有同位素标记多肽的表面改性剂，对半成品微纳米粉体进行均匀改性和标记。

步骤3：将标记改性后的微纳米粉体在常规气流粉碎机上正常生产。

步骤4：对生产线沿线区域和整个车间，进行同位素放射性检测。

步骤5：基于车间内放射性强度数据，绘制生产车间内粉尘浓度的分布图，并根据粉尘浓度分布，定位粉尘泄漏源和粉尘集中分布区域。

本发明与现有技术相比，其显著优点：（1）可准确定位到各种复杂生产线粉尘的泄漏源位置；（2）可对整个车间的粉尘浓度建立网络结构，为企业建立粉尘的重点控制区提供数据支持；（3）由于粉尘并不完全随气体流动，基于粉尘放射性的检测比基于放射性气体的检测更符合实际，具有更高的准确性和可靠性。（4）将同位素标记于其它含碳表面活性剂上存在技术复杂和成本较高的原因，本发明直接将商品化同位素标记化合物与其他表面改性剂均匀混合，有效地降低了成本。

附图说明

图1为较低标记浓度时生产粉尘的浓度分布示意图。

图2为较高标记浓度时生产粉尘的浓度分布示意图。

下面通过实施例和对比例进一步说明本发明。

 

具体实施方式

本发明的一种微纳米生产粉尘泄漏源的同位素检测方法，具体方法步骤如下：