[发明专利]真空系统兼容的同轴精密线性推进装置有效

专利信息
申请号: 201310052836.1 申请日: 2013-02-18
公开(公告)号: CN103996417A 公开(公告)日: 2014-08-20
发明(设计)人: 武荣庭;郇庆;闫凌昊;高鸿钧 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: G12B5/00 分类号: G12B5/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;王颖
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 真空 系统 兼容 同轴 精密 线性 推进 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种真空系统兼容的同轴精密线性推进装置,尤其适用于电子束蒸发源(EBE)、电子加热式蒸发源、可移动式样品台以及真空内光学聚焦调节等需要进行真空精密线性推进操作的系统。

背景技术

“真空”是指低于一个大气压的气体状态,气压越低真空度越高。在真空状态下,单位体积中的气体分子数大大减少,分子平均自由程增大,气体分子之间、气体分子与其它粒子之间的相互碰撞也随之减少。这些特点被广泛应用于科研、生产的许多部门中。例如:加速器,电子器件,大规模集成电路,热核反应,空间环境模拟,真空冶炼,食品包装等。

另外,在真空环境中,样品表面吸附了很少的分子,能够使样品长时间处于比较干净的状态,对于研究样品表面的物理、化学、生物等性质非常关键。在真空环境下,对样品进行生长、制备、表征和物性测量等操作所构成的真空系统越来越多的广泛应用于物理、化学、材料、半导体和生命科学等各个研究领域。

在真空系统中,不可避免的要对样品进行线性推进、角度旋转等机械操作,目前多数真空系统兼容的线性推进装置功能比较单一,不能提供真空导入功能。而唯一一种同时提供线性推进和真空导入功能的,是John T.Yates,Jr在1997年编纂的图书《Experimental Innovations in Surface Science:A Guide to Practical Laboratory Methods andInstruments》P27所介绍的装置。但是由于偏轴驱动的设计,使得线性推进过程中施力不均匀,线性推进精度偏低,并且对安装角度有一定的要求,特别在空间比较有限的地方的应用就受到了限制,从而在使用效果和安装的方便性上大大折扣。

发明内容

针对上述真空系统兼容的线性推进装置存在的问题,本发明提供一种真空系统兼容的同轴精密线性推进装置,包括:一波纹管和一波纹管的同轴线性驱动组件;该波纹管的同轴线性驱动组件包含一左旋驱动件、一连接件、以及一右旋驱动件,该连接件的两端分别连接该左旋驱动件以及该右旋驱动件,该左旋驱动件、该连接件以及该右旋驱动件均为中空式结构,且形成一容置空间,该波纹管设置在该容置空间内,且该波纹管的两端分别固定在该左旋驱动件和该右旋驱动件上。

上述的真空系统兼容的同轴精密线性推进装置,其中该连接件设置在该左旋驱动件以及该右旋驱动件的外侧。

上述的真空系统兼容的同轴精密线性推进装置,其中该连接件设置在该左旋驱动件以及该右旋驱动件的内侧。

上述的真空系统兼容的同轴精密线性推进装置,其中该左旋驱动件外壁含有一左旋外螺纹,该右旋驱动件外壁含有一右旋外螺纹,在该连接件一端内侧含有一左旋内螺纹,另一端内侧含有一右旋内螺纹。

上述的真空系统兼容的同轴精密线性推进装置,其中该左旋驱动件外壁含有一左旋外凹槽,该右旋驱动件外壁含有一右旋外凹槽,在该连接件一端内侧含有一左旋内凹槽,另一端内侧含有一右旋内凹槽,该左旋外凹槽与该左旋内凹槽之间正好可以形成一通道,在该通道中配有多个滚珠;该右旋外凹槽与该右旋内凹槽之间正好可以形成一通道,在该通道中配有多个滚珠。

上述的真空系统兼容的同轴精密线性推进装置,其中该波纹管与该左旋驱动件通过多个固定点固定,该多个固定点均匀的分布在一个圆周上;该波纹管与该右旋驱动件通过多个固定点固定,这些固定点均匀的分布在一个圆周上。

上述的真空系统兼容的同轴精密线性推进装置,其中该左旋驱动件与该右旋驱动件两者以相同的步调相对连接件旋转。

上述的真空系统兼容的同轴精密线性推进装置,其中该左旋内螺纹、该右旋内螺纹、该左旋外螺纹以及该右旋外螺纹均采用精密螺纹副。

上述的真空系统兼容的同轴精密线性推进装置,其中在该左旋驱动件和右旋驱动件的外壁上设有一推进刻度;该连接件外侧圆周设有n等分刻度,n为大于1的整数。

上述的真空系统兼容的同轴精密线性推进装置,其中该左旋驱动件及该右旋驱动件上设有法兰盘,且该法兰盘通过多个螺钉固定在该左旋驱动件和该右旋驱动件上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院物理研究所,未经中国科学院物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310052836.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top