[发明专利]等离子处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及表面处理设备领域，特别是涉及一种等离子处理装置。

背景技术

等离子体又叫做电浆，是由电子、离子等带电粒子以及中性粒(原子、分子、微料等)组成的，宏观上呈现准中性，且具有集体效应的混合气体。

目前，等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面活化、改性等场合。通过其处理，能够改善材料的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。

一般的等离子处理设备当中，气流在电极之间流动时，产生的等离子气体不均匀，导致进行等离子体处理时，也会产生不均匀的问题。而且气体在两片电极之间只能部分电离，产生等离子体的效率较低，也导致进行等离子体处理的效率降低。

发明内容

基于此，有必要提供一种等离子体分布均匀、等离子处理效率高的等离子处理装置。

一种等离子处理装置，包括真空腔体和等离子体发生组件，所述等离子体发生组件包括：

等离子体发生腔，开设于所述真空腔体腔壁；

电极模组，设置于所述等离子体发生腔内，所述电极模组的放电端正对所述真空腔体内部，所述电极模组由多个平行矩阵排列的管状电极组成；

微波等离子激励源，与所述电极模组电连接；

气体输送管道，自所述等离子体发生腔侧壁连通于所述等离子体发生腔。

在其中一个实施例中，所述真空腔体腔壁设置有至少两个等离子体发生组件。

在其中一个实施例中，所述真空腔体腔壁设置有两个等离子体发生组件，分设于所述真空腔体相对的两腔壁。

在其中一个实施例中，所述两个等离子体发生组件相对交错分布于所述真空腔体相对的两腔壁。

在其中一个实施例中，所述两个等离子体发生组件包括设置于真空腔体顶部腔壁的第一等离子体发生组件，以及设置于真空腔体底部腔壁的第二等离子体发生组件，所述第一等离子体发生组件和第二等离子体发生组件交错分布。

在其中一个实施例中，所述微波等离子激励源的频率为2.45GHz。

在其中一个实施例中，所述真空腔体中部还设有多个输送辊轮，所述输送辊轮相互平行。

在其中一个实施例中，所述输送辊轮的两端至少有一端伸出所述真空腔体。

在其中一个实施例中，所述等离子处理装置还包括抽真空系统，所述抽真空系统与所述真空腔体连通。

在其中一个实施例中，所述等离子处理装置还包括调速装置，所述调速装置与所述输送辊轮连接。

上述等离子处理装置，微波等离子激励源激励电极模组产生电磁场，当气体经气体输送管道进入等离子体发生腔，在电极模组的管状电极作用下被电离，形成等离子体。由于气体输送管道自所述等离子体发生腔侧壁连通于所述等离子体发生腔，而非正对等离子体发生腔开口处，故而气流在等离子体发生腔内流动时，先经与连接气体输送管道的侧壁相对的另一侧壁阻挡而转向，再自等离子体发生腔流出而进入真空腔体。气流在等离子体发生腔内发生转向的过程中流速减慢，故而增加了与电极模组的接触时间，电离更充分；且在转向过程中气流形成紊流，从而使气流中的等离子体混合均匀。且，在外加电压一定的情况下，由于电极模组由多个平行矩阵排列的管状电极组成，缩短了各管状电极之间的距离，各管状电极之间的气体更容易电离，且由于是多个管状电极分布，任一组管状电极都能使分布其间的气体发生电离，使等离子体发生腔内气体多处电离，避免了管状电极较少时，部分气体因离管状电极较远而电离效果不佳。故而，气体经所述等离子体发生组件，被高效而充分地电离，形成均匀的等离子气体，进入与真空腔体内对产品进行等离子处理，处理效果好。

附图说明

图1为一实施方式的等离子处理装置的结构示意图；

图2为一实施方式的等离子处理装置的侧面结构视图；

图3为一实施方式的等离子处理装置的正面结构视图；

图4为一实施方式的等离子处理装置的内部结构示意图；

图5为一实施方式的等离子处理装置的等离子体发生组件内部结构示意图；

图6为一实施方式的等离子处理装置的电极模组结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本发明做进一步的阐述。

如图1、图2、图5、图6所示，一种等离子处理装置，包括真空腔体100和等离子体发生组件200，所述等离子体发生组件200包括：

等离子体发生腔220，开设于所述真空腔体100腔壁；