[发明专利]遮光装置与方法有效
| 申请号： | 201310041992.8 | 申请日： | 2013-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN103941513A | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | 张宗尧 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/167 | 分类号： | G02F1/167;G09G3/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 遮光 装置 方法 | ||
1.一种遮光装置，其特征在于包括：
二透明板材相对设置，所述二透明板材间定义出一循环腔；
一流体填充在所述循环腔内，所述流体供光线通过；
复数个磁珠悬浮于所述流体中；以及
一流体循环装置连接所述循环腔，并维持所述流体在所述循环腔内流动，所述流体循环装置包含一磁吸装置；
当所述磁吸装置开启时，所述复数个磁珠受磁力吸引而留置在所述磁吸装置内，使光线通过所述复数个透明板材及所述循环腔；
当所述磁吸装置关闭时，所述复数个磁珠散布在所述流体中并阻挡光线通过所述循环腔。
2.如权利要求1所述的遮光装置，其特征在于：所述流体循环装置是透过一导入口以及一回收口连接所述循环腔，所述流体是经所述回收口进入所述流体循环装置，再由所述导入口回到所述循环腔。
3.如权利要求1所述的遮光装置，其特征在于：所述磁珠的直径是介于1納米至2000納米之间。
4.如权利要求1所述的遮光装置，其特征在于：所述流体为水、水溶液、或胶体。
5.如权利要求1所述的遮光装置，其特征在于：所述复数个磁珠用于吸收或反射光线。
6.一种遮光方法，其特征在于包括以下步骤：
提供一遮光装置，其包含二透明板材以定义一循环腔，所述循环腔内填充一液体以及复数个磁珠悬浮所述流体中，所述循环腔连接一流体循环装置且所述流体循环装置包含一磁吸装置；
启动所述磁吸装置，所述复数个磁珠受磁力吸引而留置在所述磁吸装置 内，光线得以通过所述复数个透明板材及所述循环腔；以及
关闭所述磁吸装置，所述复数个磁珠散布在所述流体中并阻挡光线通过所述循环腔。
7.如权利要求6所述的遮光方法，其特征在于：所述流体循环装置是透过一导入口以及一回收口连接所述循环腔，所述流体是经所述回收口进入所述流体循环装置，再由所述导入口回到所述循环腔。
8.如权利要求6所述的遮光方法，其特征在于：所述磁珠的直径是介于1納米至2000納米之间。
9.如权利要求6所述的遮光方法，其特征在于：所述流体为水、水溶液、或胶体。
10.如权利要求6所述的遮光方法，其特征在于：所述复数个磁珠用于吸收或反射光线。
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