[发明专利]一种对基板进行标记的方法

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示器领域，尤其涉及一种对基板进行标记的方法。

背景技术

在液晶显示器的生产过程中，为了对产品进行跟踪，需要对液晶显示器中的面板区域打标，为不同面板区域赋予不同的面板区域ID。

上述的打标是一道单独的工序，一般该工序在栅(Gate)极形成过程中，具体的方法通常为：通过紫外灯将图案形成在基板上。由于在液晶显示器的生成过程中加了上述打标这道工序，因此会极大地降低产能，同时也需要对该工序的工艺参数进行监控和调整，不便于生产。

发明内容

有鉴于此，本发明的主要目的在于提供一种对基板进行标记的方法，以缩短生产时间，提高产能。

为达到上述目的，本发明的技术方案是这样实现的：

一种对基板进行标记的方法，该方法包括：

在基板的构图工艺中，利用带有标记图案的掩膜版对所述基板进行曝光，在所述基板上形成与所述标记图案相对应的标识。

与所述标记图案相对应的标识是通过对所述基板进行一次曝光而形成的。

所述标记图案包括多个标记符号，与所述标记图案相对应的标识是通过对所述基板进行多次曝光而形成的，其中每次曝光在所述基板上形成至少一个所述标记符号对应的标识。

所述每次曝光在所述基板上形成至少一个所述标记符号，包括：每次曝光时，在所述基板上形成至少一个所述标记符号，同时保留之前曝光时所形成的标记符号。

所述基板包括多个面板区域，每个面板区域有对应的标记图案；

在所述基板上形成与所述标记图案相对应的标识，包括：在每个面板区域上形成与该面板区域对应的标记图案所对应的标识。

所述方法还包括：在用于对基板进行曝光的掩膜版上设置所述标记图案。

所述构图工艺过程包括多次曝光，曝光次数与所述掩膜版数目相等；每个掩膜版上带有至少一个所述标记符号。

除了第一次曝光时所应用的掩膜版以外，在各掩膜版上设置与前一次曝光所形成的标识符号相对应的显露图案。

设置所述显露图案的方法为：

在掩膜版上与所述基板上因第一次曝光之后的曝光而被覆盖的标记图案的位置相对应的位置设置显露图案；

所述显露图案的形状与被覆盖的所述标记图案的形状相同或包含被覆盖的标记图案的形状。

该方法还包括：

在进行所述第一次曝光之后的一次曝光时，曝光与掩膜版上所设置的显露图案相对应的基板上覆盖标记图案的区域，将基板上被该区域所覆盖的之前一次曝光所形成的标记图案显露出来。

所述掩膜版包括第一掩膜版、第二掩膜版；

构图工艺过程包括多次曝光时，所述曝光的过程包括：将第一掩膜版覆盖在基板上并进行曝光，在基板上形成设置于第一掩膜版上的标记图案；之后将第二掩膜版覆盖在基板上并进行曝光，在所述基板上形成设置于第二掩膜版上的标记图案，最终在基板上形成由设置于第一掩膜版上的标记图案以及设置于第二掩膜版上的标记图案组成的标记图案。

所述将第一掩膜版覆盖在基板上并进行曝光的操作位于形成栅极金属层的曝光工艺中；

所述将第二掩膜版覆盖在基板上并进行曝光的操作位于形成源漏极金属层的曝光工艺中。

所述标记图案包括数字、字母、其它具有标识作用的形状中的至少一种。

本发明对基板进行标记的方法利用曝光工艺直接实现打标，在进行曝光工艺的同时为基板上的面板区域赋予面板区域ID，从而省去了打标机打标的时间，因此有利于缩短生产时间，提高产能。

附图说明

图1为本发明一实施例的掩膜版示意图；

图2为本发明一实施例的基于图1中的掩膜版形成标识后的基板示意图；

图3为本发明又一实施例的基于图1中的掩膜版形成标识后的基板示意图；

图4为本发明再一实施例的基于图1中的掩膜版形成标识后的基板示意图；

图5为本发明另一实施例的掩膜版示意图；

图6为本发明一实施例的基于图2中的掩膜版形成标识后的基板示意图；

图7为本发明又一实施例的基于图2中的掩膜版形成标识后的基板示意图；

图8为本发明再一实施例的基于图2中的掩膜版形成标识后的基板示意图；

图9为本发明一实施例的基于图1和图5中的掩膜版形成标识后的基板示意图；

图10为本发明又一实施例的基于图1和图5中的掩膜版形成标识后的基板示意图；

图11为本发明再一实施例的基于图1和图5中的掩膜版形成标识后的基板示意图；