[发明专利]一种对基板进行标记的方法

权利要求书

1.一种对基板进行标记的方法，其特征在于，该方法包括：

在基板的构图工艺中，利用带有标记图案的掩膜版对所述基板进行曝光，在所述基板上形成与所述标记图案相对应的标识。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，与所述标记图案相对应的标识是通过对所述基板进行一次曝光而形成的。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述标记图案包括多个标记符号，与所述标记图案相对应的标识是通过对所述基板进行多次曝光而形成的，其中每次曝光在所述基板上形成至少一个所述标记符号对应的标识。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述每次曝光在所述基板上形成至少一个所述标记符号，包括：每次曝光时，在所述基板上形成至少一个所述标记符号，同时保留之前曝光时所形成的标记符号。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板包括多个面板区域，每个面板区域有对应的标记图案；

在所述基板上形成与所述标记图案相对应的标识，包括：在每个面板区域上形成与该面板区域对应的标记图案所对应的标识。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：在用于对基板进行曝光的掩膜版上设置所述标记图案。

7.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述构图工艺过程包括多次曝光，曝光次数与所述掩膜版数目相等；每个掩膜版上带有至少一个所述标记符号。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，除了第一次曝光时所应用的掩膜版以外，在各掩膜版上设置与前一次曝光所形成的标识符号相对应的显露图案。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，设置所述显露图案的方法为：

在掩膜版上与所述基板上因第一次曝光之后的曝光而被覆盖的标记图案的位置相对应的位置设置显露图案；

所述显露图案的形状与被覆盖的所述标记图案的形状相同或包含被覆盖的标记图案的形状。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，该方法还包括：

在进行所述第一次曝光之后的一次曝光时，曝光与掩膜版上所设置的显露图案相对应的基板上覆盖标记图案的区域，将基板上被该区域所覆盖的之前一次曝光所形成的标记图案显露出来。

11.根据权利要求3至10任一项所述的方法，其特征在于，所述掩膜版包括第一掩膜版、第二掩膜版；

构图工艺过程包括多次曝光时，所述曝光的过程包括：将第一掩膜版覆盖在基板上并进行曝光，在基板上形成设置于第一掩膜版上的标记图案；之后将第二掩膜版覆盖在基板上并进行曝光，在所述基板上形成设置于第二掩膜版上的标记图案，最终在基板上形成由设置于第一掩膜版上的标记图案以及设置于第二掩膜版上的标记图案组成的标记图案。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，

所述将第一掩膜版覆盖在基板上并进行曝光的操作位于形成栅极金属层的曝光工艺中；

所述将第二掩膜版覆盖在基板上并进行曝光的操作位于形成源漏极金属层的曝光工艺中。

13.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述标记图案包括数字、字母、其它具有标识作用的形状中的至少一种。