[发明专利]YAG晶体的清理方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种清理方法，尤其是YAG晶体的清理方法。

背景技术

YAG晶体是一种优秀的Nd和Yb激光被动Q 开关材料，由于它在0.8～1.2mm范围内吸收稳定，YAG基质晶体导热率高，可高重频工作晶体被动Q开关，应用广泛。

YAG晶体机械光学加工完成，要及时清洁晶体加工过程中留下的残留物。残留物在机械运动中组合形成了凝胶状，随着晶体加工时间延长慢慢积累附着在晶体侧面。晶体侧面是精磨面，相对抛光面显得很粗糙，因此残留物对晶体的附着力很大。一般选用超声波清洗或手洗，超声波清洗方便，资金成本大，固化物很难去掉，还是要用清洗剂清洗。手工清洗，工作效率低，容易造成划伤通光平面，二次污染严重，要反复再清洗。造成晶体器件残留物清洗难度主要是，凝胶状残留物的附着力，结痂后就更难去除。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种YAG晶体的清理方法，能有效去除YAG晶体表面的残留物。

本发明是通过以下技术方案来实现的。

一种YAG晶体的清理方法，步骤包括：

（1）在容器内放置漆片，酒精、白灰粉，充分搅拌，其中按照重量百分比，漆片50%-60%，酒精25%-30%、白灰粉10%-20%；

（2）将YAG晶体放入上述容器，1-2分钟取出分开晾干；

（3）反复步骤（2）3-5次，上述YAG晶体表面形成一层浊膜；

（4）将上述YAG晶体放入炉中在150°C-200°C下加温1-1.5小时取出；

（5）将上述YAG晶体用水清洗；

（6）将上述YAG晶体烘干。

进一步地，上述步骤（1）中，先在容器内放置漆片，然后加入酒精充分稀释融化至饱和状态后，再加入白灰粉均匀搅拌。

进一步地，上述步骤（4）中，上述炉为马弗炉。

进一步地，上述步骤（5）中，使用去离子水清洗上述YAG晶体。

进一步地，上述步骤（5）中，使用去离子水清洗后，再用清洗液进行清洗。

本发明的有益效果：

选用本发明的方法进行清洗，附着在晶体器件的有机物在高温下燃烧干净，无机物和晶体器件被有机物隔离，高温作用下自动脱离不留字迹。工艺简单，加工方便快捷，成本低，收益提高15% -20%。

具体实施方式

下面根据实施例对本发明作进一步详细说明。

实施案例1：

（1）在容器内放置漆片，酒精、白灰粉，充分搅拌，其中按照重量百分比，漆片50%，酒精30%、白灰粉20%；

具体是先在容器内放置漆片，然后加入酒精充分稀释融化至饱和状态后，再加入白灰粉均匀搅拌；

（2）将YAG晶体放入上述容器，1-2分钟取出分开晾干；

（3）反复步骤（2）3-5次，上述YAG晶体表面形成一层浊膜；

（4）将上述YAG晶体放入马弗炉中在150°C-200°C下加温1-1.5小时取出；

（5）将上述YAG晶体用水清洗，选用去离子水清洗上述YAG晶体，再用清洗液进行清洗；

（6）将上述YAG晶体烘干。

实施案例2：

（1）在容器内放置漆片，酒精、白灰粉，充分搅拌，其中按照重量百分比，漆片60%，酒精30%、白灰粉10%；

具体是先在容器内放置漆片，然后加入酒精充分稀释融化至饱和状态后，再加入白灰粉均匀搅拌；

（2）将YAG晶体放入上述容器，1-2分钟取出分开晾干；

（3）反复步骤（2）3-5次，上述YAG晶体表面形成一层浊膜；

（4）将上述YAG晶体放入马弗炉中在150°C-200°C下加温1-1.5小时取出；

（5）将上述YAG晶体用水清洗，选用去离子水清洗上述YAG晶体，再用清洗液进行清洗；

（6）将上述YAG晶体烘干。

实施案例3：

（1）在容器内放置漆片，酒精、白灰粉，充分搅拌，其中按照重量百分比，漆片55%，酒精28%、白灰粉17%；

具体是先在容器内放置漆片，然后加入酒精充分稀释融化至饱和状态后，再加入白灰粉均匀搅拌；

（2）将YAG晶体放入上述容器，1-2分钟取出分开晾干；

（3）反复步骤（2）3-5次，上述YAG晶体表面形成一层浊膜；

（4）将上述YAG晶体放入马弗炉中在150°C-200°C下加温1-1.5小时取出；