[发明专利]YAG晶体的清理方法无效
| 申请号： | 201310030370.5 | 申请日： | 2013-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN103071656A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 万文;万黎明 | 申请（专利权）人： | 安徽环巢光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B11/00 | 分类号： | B08B11/00;B08B7/00 |
| 代理公司： | 安徽汇朴律师事务所 34116 | 代理人： | 丁瑞瑞 |
| 地址： | 238000 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | yag 晶体 清理 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种YAG晶体的清理方法，其特征在于，步骤包括：
（1）在容器内放置漆片，酒精、白灰粉，充分搅拌，其中按照重量百分比，漆片50%-60%，酒精25%-30%、白灰粉10%-20%；
（2）将YAG晶体放入所述容器，1-2分钟取出分开晾干；
（3）反复步骤（2）3-5次，所述YAG晶体表面形成一层浊膜；
（4）将所述YAG晶体放入炉中在150°C-200°C下加温1-1.5小时取出；
（5）将所述YAG晶体用水清洗；
（6）将所述YAG晶体烘干。
2.根据权利要求1所述的YAG晶体的清理方法，其特征在于，所述步骤（1）中，先在容器内放置漆片，然后加入酒精充分稀释融化至饱和状态后，再加入白灰粉均匀搅拌。
3.根据权利要求1所述的YAG晶体的清理方法，其特征在于，所述步骤（4）中，所述炉为马弗炉。
4.根据权利要求1所述的YAG晶体的清理方法，其特征在于，所述步骤（5）中，使用去离子水清洗所述YAG晶体。
5.根据权利要求4所述的YAG晶体的清理方法，其特征在于，所述步骤（5）中，使用去离子水清洗后，再用清洗液进行清洗。
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