[发明专利]一种宽波段高透过率OGS用玻璃及其制造方法无效
申请号: | 201310023133.6 | 申请日: | 2013-01-21 |
公开(公告)号: | CN103102084A | 公开(公告)日: | 2013-05-15 |
发明(设计)人: | 李俊华;姜翠宁;李亮亮 | 申请(专利权)人: | 深圳市正星光电技术有限公司 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34;B32B17/06 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 波段 透过 ogs 玻璃 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及触摸屏行业,主要应用在电容屏方面,具体涉及一种宽波段高透过率OGS(One glass solution)用玻璃及其制造方法,也可以达到更好的消底影效果。
背景技术
现有OGS用玻璃的一种结构为:Glass/BM/ITO(氧化铟锡),其中BM为绝缘边框,ITO是导电层,这种结构在蚀刻成图案以后,ITO电极线看的非常明显,影响触摸屏的外观。
另一种OGS用ITO导电玻璃的结构为:Glass/BM/Nb2o5/SiO2/ITO(氧化铟锡)其中BM为绝缘边框,ITO是导电层,作为触摸屏的电极及传感层,层为消影层,其主要功能是消除ITO蚀刻后的痕迹,有ITO和没有ITO的地方膜层反射率在0.5%以内,这样在人的视觉来看,在显示屏上不容易看见ITO线条。
但是以上两种玻璃在做成触摸屏后,第一种的ITO线条能够很清晰的看到,第二种虽然ITO线条经过消影层已经淡化,但是两种产品在太阳强光下,由于整个膜层的透过率比较低,只有88%左右,如果电阻值更低的话,透过率还会更低,导致反射率高,因此在强光下很难看清楚屏幕上的图案。
传统触摸屏是由两片玻璃对贴组成(一片玻璃做为触摸传感器,一片玻璃做为保护玻璃,称为G/G结构),这样增加了触摸屏的厚度和重量;
中国专利申请号200910305105.7公开了一种高透过率TP玻璃及其制造方法,其是在玻璃的前后表面分别采用两层膜达到高透过率的效果,其仅仅是在 550nm处提高了透过率,而且采用的ITO靶材是含3%重量SnO2的In2O3靶材,其产品电阻为400Ω左右。
发明内容
本发明解决上述问题提供一种宽波段高透过率OGS用玻璃及其制造方法,减轻了触摸屏的重量,提高了透光率,消除了ITO导电线条的底影,使得触摸屏在强光下也能清楚的看到图案。
为解决上述问题,本发明通过以下方案来实现:一种宽波段高透过率OGS用玻璃,该OGS用玻璃为单片玻璃结构,同时起到保护玻璃和触摸传感器的双重作用,在基板的后表面镀有五氧化二铌膜、二氧化硅膜,在基板的前表面分别镀有五氧化二铌膜、二氧化硅膜、绝缘边框、ITO导电膜。
优选地,所述基板的前表面依次镀有绝缘边框、一层五氧化二铌膜、一层二氧化硅膜、一层五氧化二铌膜、一层二氧化硅膜、ITO导电膜,该基板的后表面依次镀有一层五氧化二铌膜(4)、一层二氧化硅膜、一层五氧化二铌膜、一层二氧化硅膜。
优选地,所述基板(1)的前表面依次镀有一层五氧化二铌膜、一层二氧化硅膜、一层五氧化二铌膜、一层二氧化硅膜、绝缘边框、ITO导电膜,该基板的后表面依次镀有一层五氧化二铌膜、一层二氧化硅膜、一层五氧化二铌膜、一层二氧化硅膜。
优选地,所述基板的前表面依次镀有一层五氧化二铌膜、一层二氧化硅膜、一层五氧化二铌膜、一层二氧化硅膜、ITO导电膜、绝缘边框,该基板的后表面依次镀有一层五氧化二铌膜、一层二氧化硅膜、一层五氧化二铌膜、一层二氧化硅膜。
该方法工艺分为三种工艺制作流程,
第一种工艺制作流程,绝缘边框镀在基板前表面的前表面的功能层和ITO膜层之前,为第一道工序;ITO膜采用低温镀膜;
第二种工艺制作流程,绝缘边框镀在基板前表面的功能层和ITO膜之间,则功能层采用高温方式或者低温方式生产均可,ITO膜需要采用低温镀膜;
第三种工艺制作流程,绝缘边框镀在基板前表面前表面的功能层和ITO膜之后,则镀膜制程完全可采取高温镀膜来完成,ITO膜采用高温镀膜。
优选地,所述第一种工艺的具体流程如下:
a、玻璃基板清洗;
b、制作绝缘边框图案,绝缘边框在玻璃前表面;
c、带有绝缘边框的玻璃基板进行镀膜前清洗;
d、将清洗干净的玻璃基板装在基片架上送入镀膜线的真空腔体内;先对玻璃基板的后表面进行镀膜加工,依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜,一层Nb2O5膜,一层SiO2膜;
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