[发明专利]一种宽波段高透过率OGS用玻璃及其制造方法无效
申请号: | 201310023133.6 | 申请日: | 2013-01-21 |
公开(公告)号: | CN103102084A | 公开(公告)日: | 2013-05-15 |
发明(设计)人: | 李俊华;姜翠宁;李亮亮 | 申请(专利权)人: | 深圳市正星光电技术有限公司 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34;B32B17/06 |
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地址: | 518000 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 波段 透过 ogs 玻璃 及其 制造 方法 | ||
1.一种宽波段高透过率OGS用玻璃,其特征在于:该OGS用玻璃为单片玻璃结构,同时起到保护玻璃和触摸传感器的双重作用,在基板(1)的后表面镀有五氧化二铌膜(4)、二氧化硅膜(5),在基板(1)的前表面分别镀有五氧化二铌膜(4)、二氧化硅膜(5)、绝缘边框(2)、ITO导电膜(3)。
2.根据权利要求1所述的一种宽波段高透过率OGS用玻璃,其特征在于:所述基板(1)的前表面依次镀有绝缘边框(2)、一层五氧化二铌膜(4)、一层二氧化硅膜(5)、一层五氧化二铌膜(4)、一层二氧化硅膜(5)、ITO导电膜(5),该基板(1)的后表面依次镀有一层五氧化二铌膜(4)、一层二氧化硅膜(5)、一层五氧化二铌膜(4)、一层二氧化硅膜(5)。
3.根据权利要求1所述的一种宽波段高透过率OGS用玻璃,其特征在于:所述基板(1)的前表面依次镀有一层五氧化二铌膜(4)、一层二氧化硅膜(5)、一层五氧化二铌膜(4)、一层二氧化硅膜(5)、绝缘边框(2)、ITO导电膜(5),该基板(1)的后表面依次镀有一层五氧化二铌膜(4)、一层二氧化硅膜(5)、一层五氧化二铌膜(4)、一层二氧化硅膜(5)。
4.根据权利要求1所述的一种宽波段高透过率OGS用玻璃,其特征在于:所述基板(1)的前表面依次镀有一层五氧化二铌膜(4)、一层二氧化硅膜(5)、一层五氧化二铌膜(4)、一层二氧化硅膜(5)、ITO导电膜(5)、绝缘边框(2),该基板(1)的后表面依次镀有一层五氧化二铌膜(4)、一层二氧化硅膜(5)、一层五氧化二铌膜(4)、一层二氧化硅膜(5)。
5.一种宽波段高透过率OGS用玻璃的制造方法,其特征在于:该方法工艺分为三种工艺制作流程,
第一种工艺制作流程,绝缘边框(2)镀在基板(1)前表面的前表面的功能层和ITO膜层之前,为第一道工序;ITO膜(3)采用低温镀膜;
第二种工艺制作流程,绝缘边框(2)镀在基板(1)前表面的功能层和ITO膜(3)之间,则功能层采用高温方式或者低温方式生产均可,ITO膜(3)需要采用低温镀膜;
第三种工艺制作流程,绝缘边框(2)镀在基板(1)前表面前表面的功能层和ITO膜(3)之后,则镀膜制程完全可采取高温镀膜来完成,ITO膜(3)采用高温镀膜。
6.根据权利要求5所述的宽波段高透过率OGS用玻璃的制造方法,其特征在于,所述第一种工艺的具体流程如下:
a、玻璃基板清洗;
b、制作绝缘边框(2)图案,绝缘边框(2)在玻璃前表面;
c、带有绝缘边框(2)的玻璃基板进行镀膜前清洗;
d、将清洗干净的玻璃基板装在基片架上送入镀膜线的真空腔体内;先对玻璃基板的后表面进行镀膜加工,依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜,一层Nb2O5膜,一层SiO2膜;
e、玻璃的后表面镀完膜后,对玻璃的前表面进行镀膜,绝缘边框(2)上依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜,一层Nb2O5膜,一层SiO2膜,最后再镀一层ITO导电膜;
f、在镀膜机中将玻璃取出,进行检验测试,合格入库。
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