[发明专利]一种X射线反射镜表面镀膜的方法

权利要求书

1.一种X射线反射镜表面镀膜的方法，其特征在于它是通过以下步骤实现的：

一、将玻璃基底用丙酮超声波清洗15min~30min，再用无水乙醇清洗15min~30min，最后用去离子水清洗15min~30min后烘干；

二、将玻璃基底置于磁控溅射真空仓内的旋转加热台上，使基底中心正对钛靶的中心，通过真空获得系统将真空仓内抽成真空，当真空仓内真空度达到1.0×10^-4Pa~9.9×10^-4Pa时，启动加热装置，加热至25℃~650℃，并且保温10min~120min；通入Ar气，当真空仓内压强为3Pa~5Pa时，向旋转加热台施加200V~800V的负电压，对玻璃基底进行反溅清洗10min~20min；

三、反溅清洗完毕后，向钛靶施加直流电源启辉，溅射功率为60W~200W，控制Ar气流量为60sccm~150sccm，使真空仓内气体压强为0.1Pa~2Pa，预溅射3min~5min后，移开挡板，开始向衬底表面镀钛膜10min~90min；

四、沉积完钛薄膜后，关闭直流溅射电源，向旋转加热台施加200V~800V的负电压，向钛膜表面进行反溅溅射10min~20min；

五、移动靶源，使碳靶的中心位置正对着玻璃基底的中心，向碳靶施加射频电源启辉，射频功率为60W~200W，控制Ar气流量为30sccm~70sccm，使真空仓内气体压强为0.1Pa~2Pa，预溅射3min~5min后，移开挡板，开始向钛膜表面镀碳膜60min~180min；

六、沉积完碳薄膜后，关闭射频电源，向旋转加热台施加200V~800V的负电压，向碳膜表面进行反溅溅射10min~20min；

七、反溅完成之后，用挡板遮住基底，关闭所有电源，待真空仓内温度降至20℃~25℃时即制得X射线反射镜表面膜层。

2.如权利要求1所述的一种X射线反射镜表面镀膜的方法，其特征在于步骤一中将玻璃基底用丙酮超声波清洗20min~25min，再用无水乙醇清洗20min~25min，最后用去离子水清洗20min~25min后烘干。

3.如权利要求1所述的一种X射线反射镜表面镀膜的方法，其特征在于步骤一中将玻璃基底用丙酮超声波清洗24min，再用无水乙醇清洗24min，最后用去离子水清洗24min后烘干。

4.如权利要求1至3中任一项所述的一种X射线反射镜表面镀膜的方法，其特征在于步骤二中当真空仓内真空度达到2.0×10^-4Pa~8.0×10^-4Pa时，启动加热装置，加热至100℃~600℃，并且保温30min~90min。

5.如权利要求1至3中任一项所述的一种X射线反射镜表面镀膜的方法，其特征在于步骤二中当真空仓内真空度达到5.0×10^-4Pa时，启动加热装置，加热至300℃，并且保温60min。

6.如权利要求4所述的一种X射线反射镜表面镀膜的方法，其特征在于步骤二中当真空仓内压强为3.5Pa~4.5Pa时，向旋转加热台施加600V~700V的负电压，对玻璃基底进行反溅清洗12min~18min。

7.如权利要求4所述的一种X射线反射镜表面镀膜的方法，其特征在于步骤二中当真空仓内压强为4Pa时，向旋转加热台施加650V的负电压，对玻璃基底进行反溅清洗15min。

8.如权利要求6所述的一种X射线反射镜表面镀膜的方法，其特征在于步骤三中控制Ar气流量为80sccm~120sccm，使真空仓内气体压强为0.5Pa~1.5Pa，预溅射3.5min~4.5min后，移开挡板，开始向衬底表面镀钛膜25min~75min。

9.如权利要求6所述的一种X射线反射镜表面镀膜的方法，其特征在于步骤四中向旋转加热台施加300V~700V的负电压，向钛膜表面进行反溅溅射12min~18min。

10.如权利要求8所述的一种X射线反射镜表面镀膜的方法，其特征在于步骤五中控制Ar气流量为40sccm~60sccm，使真空仓内气体压强为0.5Pa~1.5Pa，预溅射3.5min~4.5min后，移开挡板，开始向钛膜表面镀碳膜90min~150min。