[发明专利]MC尼龙玻璃抛光盘及其制造方法有效
申请号: | 201310019038.9 | 申请日: | 2013-01-19 |
公开(公告)号: | CN103072097A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 陈金身;智红梅;陈君丽;张慧娟;陈奕林;杨梅;段晓琴;杜晓冉 | 申请(专利权)人: | 河南工业大学 |
主分类号: | B24D3/28 | 分类号: | B24D3/28;B24D13/00;B24D18/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 450001*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | mc 尼龙 玻璃 抛光 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明属玻璃抛光领域,具体涉及MC尼龙玻璃抛光盘及其制造方法。
背景技术
抛光盘是用于高档玻璃工艺品加工必不可少的抛光工具,所用抛光盘大都是稀土氧化铈作为磨削磨粒的抛光盘,中国专利公开号为CN102114615A,虽然解决了以往抛光盘的切削效率低,表面光洁度不高,抛光时间长,工作效率低等缺点,但稀土价格暴涨,使得很多抛光企业大量亏损。中国专利公开号为CN102120315A的专利公开了采用改性金刚石作为磨粒的抛光盘,虽然使用寿命(耐磨性)是稀土抛光盘两倍左右,但金刚石比稀土更贵,成本太高。中国专利号为201110231332.7 的专利公开了以氧化铝-氧化铈核壳复合磨粒为磨削磨粒的玻璃抛光盘及其制造方法,由于采用的复合磨粒既具有α- Al2O3的强磨削力,又具有氧化铈抛光粉机械化学抛光机理的的快速抛光性能,且由于含Ce3+的氧化铈软壳,减少了对玻璃抛光面的划痕,抛光平整度高,光洁度好。但其结合剂采用的不饱和树脂,磨具较硬,结合剂本身耐磨性较差,使得磨具的使用寿命受到影响。
发明内容
本发明的目的正是针对上述现有技术中所存在的问题而提供的一种切削效率高、耐磨性好、使用寿命长、表面光洁度高的MC尼龙玻璃抛光盘及其制造方法。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:
本发明的玻璃抛光盘原料包括磨粒、填料、己内酰胺单体、催化剂、助催化剂组成,各原料的重量百分比为:磨粒20%~40%,填料5%~15%,己内酰胺单体55%~70%,催化剂0.5%~1%,助催化剂0.5%~1%;所述磨粒为氧化铝-氧化铈核壳复合磨粒,所述填料包括导热填料、活性填料、水溶性造孔剂。
所述导热填料为石墨、氮化铝、碳纳米管中的一种或多种组合,导热填料具有超强的导热性能,能及时导出磨削区产生的热量,避免磨削区温度过高产生炸裂现象。导热填料中的石墨又起到固体润滑剂的作用,碳纳米管的加入使得磨具强度提高,耐磨性增加,且可以降低玻璃表面的粗造度,增加光洁度。
所述活性填料为氟化钠、氟化铵中的一种或两种组合,氟化物可与玻璃起化学反应有化学抛光作用。
所述水溶性造孔剂为白糖,白糖水溶性好,抛光时溶解于水在抛光接触面形成空隙,一方面有容屑功能,另一方面可吸收磨削点的温度,具有降温功能。
所述催化剂为己内酰胺单体聚合时常用的催化剂,如温绍国的发明专利(公开号:CN102181149A)报道的Na、NaOH等碱性物质,优选为NaOH。
所述助催化剂为己内酰胺单体聚合时常用的助催化剂,如温绍国的发明专利(公开号:CN102181149A)报道的TDI、MDI、DPI,优选为TDI。
所述氧化铝-氧化铈核壳复合磨粒的粒径为0.05-5μm,制备方法如陈金身的发明专利(公开号:CN201110231333.1)报道的方法。
本发明的玻璃抛光盘的制造方法具体步骤如下:
a、 将己内酰胺单体加热熔融,加入磨粒和填料,强力机械搅拌,超声分散充分混合;
b、 在真空度大于0.1 MPa和温度130℃下,抽真空脱水完全,加入催化剂,混匀;
c、 继续抽真空脱水完全,解除真空,加入助催化剂,搅拌均匀;
d、 浇铸到预热的模具中,离心浇注反应20min,自然冷却至室温,脱模,即得到单体浇铸MC尼龙玻璃抛光盘。
应用时,把固化好的玻璃抛光磨盘用双组份胶黏在铁盘上,安装在抛光机上。
本发明的优点在于:1、磨具孔隙率大,便于容屑;2、光泽度提高速度快,光泽持续时间长,同时磨削温度低不会导致工件破裂;3、结合剂耐磨性高,磨具使用寿命长。
具体实施方式
通过以下的实施例将进一步理解本发明,但不能限定本发明的内容。
实施例1
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