[发明专利]功能性膜的制造方法及功能性膜

权利要求书

1.一种功能性膜的制造方法，其特征在于，

使用涂料，在基板上形成不含卤素的有机层，

通过等离子体CVD，在该有机层上形成氮化硅层。

2.根据权利要求1所述的功能性膜的制造方法，其中，

使用具有有机溶剂、有机化合物及表面活性剂的涂料来形成所述有机层，且以去除所述有机溶剂后的浓度计，所述涂料含有0.01重量％～10重量％的表面活性剂。

3.根据权利要求1或2所述的功能性膜的制造方法，其中，

以厚度变成0.5μm～5μm的方式形成所述有机层。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的功能性膜的制造方法，其中，

涂布5cc/m²～50cc/m²的所述涂料来形成所述有机层。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的功能性膜的制造方法，其中，

自将长条状的所述基板卷绕成辊状而成的基板辊中抽出所述基板，一边沿长度方向搬送该抽出的基板，一边进行向所述基板上的涂料的涂布、干燥、及有机化合物的固化来形成有机层，将形成有该有机层的基板再次卷绕成辊状而制成基板/有机层辊，

自所述基板/有机层辊中抽出形成有有机层的基板，一边沿长度方向搬送所述基板，一边进行所述氮化硅层的形成，将形成有该氮化硅层的基板再次卷绕成辊状。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的功能性膜的制造方法，其中，

所述有机层是使三官能以上的(甲基)丙烯酸酯系的有机化合物进行交联而成的层。

7.根据权利要求2～6中任一项所述的功能性膜的制造方法，其中，

所述表面活性剂为硅系的表面活性剂。

8.一种功能性膜，其特征在于，

包括1个以上的3层的组合，所述3层为不含卤素的有机层、形成于该有机层上的氮化硅层、以及形成于所述有机层与所述氮化硅层之间的不含卤素的有机/氮化硅混合层。

9.根据权利要求8所述的功能性膜，其中，

所述有机层含有0.01重量％～10重量％的表面活性剂。

10.根据权利要求8或9所述的功能性膜，其中，

所述有机层的厚度为0.5μm～5μm。

11.根据权利要求8～10中任一项所述的功能性膜，其中，

所述有机层是使三官能以上的(甲基)丙烯酸酯系的有机化合物进行交联而成的层。