[发明专利]金属氧化膜的制造方法和金属氧化膜

说明书

技术领域

本发明是涉及金属氧化膜的制造方法和金属氧化膜的发明，在例如太阳能电池、电子设备等之中使用的金属氧化膜的制造方法中能够适用。

背景技术

作为成膜为在太阳能电池、电子设备等中使用的金属氧化膜的方法，例如采用利用真空的MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition：有机金属气相生长)法、溅射法等。利用这些金属氧化膜的制造方法制作的金属氧化膜的膜特性优异。

例如，利用上述金属氧化膜的制造方法制作透明导电膜时，该透明导电膜的电阻为低电阻，另外，即使对该制作后的透明导电膜实施加热处理，该透明导电膜的电阻也不上升。

此外，作为基于MOCVD法成膜锌氧化膜所涉及的现有文献，存在例如专利文献1。此外，作为基于溅射法成膜锌氧化膜所涉及的现有文献，存在例如专利文献2。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011－124330号公报

专利文献2：日本特开平9－45140号公报

发明内容

发明所要解决的课题

但是，对于MODVD法而言，为了实现该方法需要高成本并且需要使用在空气中不稳定的材料，在利便性方面差。

另外，利用溅射法形成在膜中意图掺杂杂质的薄膜时，通常使用主原料中含有规定浓度的掺杂物材料的材料作为靶材。因此，通过使用了相同靶材的成膜而得到的薄膜中的掺杂物浓度受靶材中的掺杂物浓度的限定。因此，例如成膜具有不同的掺杂物浓度的薄膜时，需要根据各浓度的靶材，难以推导其成膜条件。另外，利用溅射法制作使掺杂浓度发生变化的层叠结构时需要多台装置，装置成本增大成为问题。

因此，本发明的目的在于提供能够以低成本制作膜特性(低电阻)良好的金属氧化膜的金属氧化膜的制造方法。此外，本发明的目的在于提供能够更有效地实现金属氧化膜的低电阻的金属氧化膜的制造方法。另外，目的在于提供利用该金属氧化膜的制造方法成膜的金属氧化膜。

用于解决课题的方法

为了达成上述目的，本发明的金属氧化膜的制造方法具备：(A)通过将含锌溶液雾化，并将该雾化后的溶液在非真空下对基板进行喷雾，从而在所述基板上使金属氧化膜成膜的工序；和(B)通过对所述金属氧化膜照射紫外线，从而使所述金属氧化膜的电阻降低的工序；所述工序(B)具有：(B－1)根据所述金属氧化膜的膜厚确定将要照射的所述紫外线的波长的工序、和(B－2)向所述金属氧化膜照射具有所述工序(B－1)中确定的波长的所述紫外线的工序。

发明效果

本发明的权利要求1中记载的本发明的金属氧化膜的制造方法具备：(A)通过将含锌溶液雾化，并将该雾化后的溶液在非真空下对基板进行喷雾，从而在所述基板上使金属氧化膜成膜的工序；和(B)通过对所述金属氧化膜照射紫外线，从而使所述金属氧化膜的电阻降低的工序；所述工序(B)具有：(B－1)根据所述金属氧化膜的膜厚确定将要照射的所述紫外线的波长的工序、和(B－2)向所述金属氧化膜照射具有所述工序(B－1)中确定的波长的所述紫外线的工序。

因此，虽然在非真空下在基板上成膜金属氧化膜，该成膜后的金属氧化膜的电阻发生高电阻化，但通过随后的紫外线照射，仍能够使该金属氧化膜低电阻化(能够将在非真空下成膜的金属氧化膜的电阻降低至与在真空下成膜的金属氧化膜的电阻相同的程度)。另外在本发明中，作为成膜装置不需要采用用于形成真空状态并保持该真空状态的装置等，因此能够变得低成本化并提高利便性。

另外在本发明中，根据金属氧化膜的膜厚确定将要照射的紫外线的波长。因此，可以根据金属氧化膜的膜厚，对该金属氧化膜照射具有能够提高低电阻化的效率(在短时间内进一步减少电阻率)的波长的紫外线。

通过以下的详细说明和附图，该发明的目的、特征、情形和优点进一步明确。

附图说明

图1是用于说明本发明的金属氧化膜的成膜方法的成膜装置构成图。

图2是用于说明本发明的金属氧化膜的制造方法(特别是电阻降低方法)的图。

图3是用于说明本发明的金属氧化膜的制造方法的效果的实验数据图。

图4是用于说明本发明的金属氧化膜的制造方法的效果的实验数据图。

图5是用于说明本发明的金属氧化膜的制造方法的效果的实验数据表。

图6是用于说明本发明的金属氧化膜的制造方法的效果的实验数据图。

图7是用于说明本发明的金属氧化膜的制造方法的效果的实验数据图。

具体实施方式