[发明专利]一种用于处理重质烃给料的自活化加氢处理催化剂和方法

权利要求书

1.一种用于处理重质烃给料的自活化加氢处理催化剂，其中所述催化剂包含：煅烧颗粒，所述煅烧颗粒包含通过共同研糊无机氧化物粉末、三氧化钼粉末和镍化合物制得的共同研糊混合物，并且随后使所述共同研糊混合物形成为颗粒，将颗粒煅烧，由此提供所述煅烧颗粒，其中所述煅烧颗粒包含以1至10重量％范围的含量存在的钼，作为金属并且基于所述煅烧颗粒的总重，以及以使得所述镍与所述钼的重量比低于0.4的含量存在的镍，并且其中所述煅烧颗粒具有如下的孔径分布，所述孔径分布使得所述煅烧颗粒低于70％的总孔体积在于所述煅烧颗粒的具有至范围的直径的孔，所述煅烧颗粒至少10％的总孔体积在于所述煅烧颗粒的具有至范围的直径的孔，并且所述煅烧颗粒的1％至10％的总孔体积在于所述煅烧颗粒的具有大于直径的孔，并且其中所述煅烧颗粒的特征在于并呈现出在546cm^-1至586cm^-1谱带范围内包括Raman峰的Raman谱。

2.根据权利要求1所述的催化剂，其中所述煅烧颗粒包含实质上不存在的钴。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的催化剂，其中所述煅烧颗粒包含低于0.1重量％的钴，作为金属并基于所述煅烧颗粒的总重。

4.根据权利要求1至3任一项所述的催化剂，其中所述煅烧颗粒基本上由无机氧化物、钼和镍组成。

5.根据权利要求1至4任一项所述的催化剂，其中所述煅烧颗粒包含使得所述镍与所述钼的重量比高于0.01的镍。

6.根据权利要求1至5任一项所述的催化剂，其中所述煅烧颗粒包含含量低于所述煅烧颗粒总重的9.5重量％的钼，基于作为金属的钼。

7.根据权利要求1至6任一项所述的催化剂，其中所述煅烧颗粒包含含量为所述煅烧颗粒总重的至少2重量％的钼，基于作为金属的钼。

8.根据权利要求1至7任一项所述的催化剂，其中所述煅烧颗粒至少5％的总孔体积在于所述煅烧颗粒的具有大于的直径的孔。

9.根据权利要求1至8任一项所述的催化剂，其中提供所述煅烧颗粒的所述颗粒的煅烧在受控的温度条件下进行，其中煅烧温度在约700℃(1292℉)至约790℃(1454℉)的范围内，并且持续有效提供具有期望的孔结构的所述煅烧混合物的煅烧时间段。

10.一种方法，其包括：在适用于提供自活化催化剂的自活化的处理条件下，使具有2ppmw至250ppmw范围内的镍含量、5ppmw至250ppmw范围内的钒含量和2重量％至8重量％范围内的硫含量的重质烃给料接触所述自活化催化剂，所述自活化催化剂包含煅烧颗粒，所述煅烧颗粒包含通过共同研糊无机氧化物粉末、三氧化钼粉末和镍化合物制得的共同研糊混合物，并且随后使所述共同研糊混合物形成为颗粒，将颗粒煅烧，由此提供所述煅烧颗粒，其中所述煅烧颗粒包含以1至10重量％范围的含量存在的钼，作为金属并且基于所述煅烧颗粒的总重，以及以使得所述镍与钼的重量比低于0.4的含量存在的镍，并且其中所述煅烧颗粒具有的孔径分布使得所述煅烧颗粒低于70％的总孔体积在于所述煅烧颗粒的具有至范围的直径的孔，所述煅烧颗粒至少10％的总孔体积在于所述煅烧颗粒的具有至范围的直径的孔，并且所述煅烧颗粒的1％至10％的总孔体积在于所述煅烧颗粒的具有大于的直径的孔，并且其中所述煅烧颗粒的特征在于并呈现出在546cm^-1至586cm^-1谱带范围内包括Raman峰的Raman谱。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述处理条件包括在2298kPa(300psig)至20,684kPa(3000psig)范围内的反应压力；在340℃(644℉)至480℃(896℉)范围内的反应温度；在0.01hr^-1至3hr^-1范围内的液时空速(LHSV)；和在89m³/m³(500SCF/bbl)至1781m³/m³(10,000SCF/bbl)范围内的氢处理气体率。

12.根据权利要求10或权利要求11所述的方法，其中所述煅烧颗粒包含实质上不存在的钴。