[发明专利]电力导入装置及使用该电力导入装置的真空处理设备

权利要求书

1.一种电力导入装置，其包括：

能保持基板的基板保持件；

支柱，其与所述基板保持件连接并包括第一导电支柱部和第二导电支柱部；

壳体，其可旋转地支撑所述支柱并且包括第一导电壳体部和第二导电壳体部；

第一导电部，其配置为从所述第一导电壳体部向所述第一导电支柱部供给第一电压；

第二导电部，其配置为从所述第二导电壳体部向所述第二导电支柱部供给第二电压，所述第二导电部与所述第一导电部绝缘；

第一电力导入构件，其与所述第一导电支柱部连接并被配置为将第一电压供给至所述基板保持件；以及

第二电力导入构件，其与所述第二导电支柱部连接并被配置为将第二电压供给至所述基板保持件，

其中，第一空间和第二空间形成在所述支柱与所述壳体之间的间隙中，第一空间与所述第一导电部接触并能使冷却剂流动，第二空间与所述第二导电部接触并能使冷却剂流动，

所述电力导入装置还包括用于将所述第一空间与被施加所述第二电压的构件隔离并将所述第二空间与被施加所述第一电压的构件隔离的隔离装置。

2.如权利要求1所述的电力导入装置，其中，

所述支柱还包括设置在所述第一导电支柱部与第二导电支柱部之间的绝缘支柱部，

所述壳体还包括被设置在第一导电壳体部与第二导电壳体部之间的绝缘壳体部，

所述电力导入装置包括被设置在所述绝缘壳体部与所述绝缘支柱部之间并被配置为密封冷却剂的绝缘密封部，

所述第一空间形成在所述第一导电部与所述绝缘密封部之间，所述第二空间形成在所述第二导电部与所述绝缘密封部之间。

3.如权利要求1或2所述的电力导入装置，其中，被供给至所述第一空间与所述第二空间中的一个的冷却剂流经基板保持件并从第一空间和第二空间中的另一个排出。

4.如权利要求1至3中任一项所述的电力导入装置，其中，

所述支柱包括：配置为对所述基板保持件供给所述冷却剂的第一流路和配置为将冷却剂从所述基板保持件排出的第二流路，

所述第一流路连接到所述第一空间与所述第二空间中的一个，所述第二流路连接到所述第一空间与所述第二空间中的另一个。

5.如权利要求1至4中任一项所述的电力导入装置，其中，所述第一导电部、所述第二导电部和所述绝缘密封部是沿所述支柱的旋转轴线方向彼此间隔开的。

6.如权利要求1至4中任一项所述的电力导入装置，其中，所述第一导电部、所述第二导电部和所述绝缘密封部是沿所述支柱的径向方向彼此间隔开的。

7.如权利要求1至6中任一项所述的电力导入装置，其中

所述第一导电部包括：被设在所述第一导电支柱部中的第一旋转导电构件；以及被设在所述第一导电壳体部中并与所述第一旋转导电构件滑动接触的第一固定导电构件，

所述第二导电部包括：被设在所述第二导电支柱部中的第二旋转导电构件；以及被设在所述第二导电壳体部中并与所述第二旋转导电构件滑动接触的第二固定导电构件，

所述绝缘密封部包括：被设在所述绝缘支柱部中的旋转绝缘构件；以及被设在所述绝缘壳体部中并与所述旋转绝缘构件滑动接触的固定绝缘构件。

8.如权利要求1至7中任一项所述的电力导入装置，其中，形成有配置为经过所述第一导电部将气体供给到与所述第一空间相对的空间的内部的流路。

9.如权利要求1至8中任一项所述的电力导入装置，其中，形成有配置为经过所述第二导电部将气体供给到与所述第二空间相对的空间的内部的流路。

10.如权利要求8所述的电力导入装置，其中，形成有配置为经过所述第一导电部将被供给到与所述第一空间相对的空间的内部的气体收集的流路。

11.如权利要求9所述的电力导入装置，其中，形成有配置为经过所述第二导电部将被供给到与所述第二空间相对的空间的内部的气体收集的流路。

12.如权利要求1至11中任一项所述的电力导入装置，其还具有：

配置为使所述壳体绕第一旋转轴线旋转的第一旋转驱动装置；和

配置为使所述基板保持件绕在与所述第一旋转轴线正交的方向上的第二旋转轴线旋转的第二旋转驱动装置。

13.一种真空处理设备，其中基板保持件被设在真空处理室内并且包括配置为用于保持进行预定的真空处理的基板的静电吸引装置，其中

通过如权利要求1至12中任一项所限定的电力导入装置，电力被供给到所述静电吸引装置。