[发明专利]光调制控制方法、控制程序、控制装置以及激光照射装置有效

专利信息
申请号: 201280053042.0 申请日: 2012-10-23
公开(公告)号: CN103907048A 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 松本直也;泷口优;安藤太郎;大竹良幸;井上卓;大津知子;丰田晴义 申请(专利权)人: 浜松光子学株式会社
主分类号: G02F1/01 分类号: G02F1/01;B23K26/06
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 杨琦
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 调制 控制 方法 控制程序 装置 以及 激光 照射
【权利要求书】:

1.一种光调制控制方法,其特征在于:

是使用输入激光并调制所述激光的相位从而输出相位调制后的激光的相位调制型的空间光调制器,由呈现于所述空间光调制器的调制图案,控制向被设定的聚光点的所述激光的聚光照射的光调制控制方法,

具备:

照射条件取得步骤,作为所述激光的照射条件,取得输入到所述空间光调制器的所述激光的波长的个数xt、xt个波长λx以及向所述空间光调制器的各个波长的所述激光的入射条件,其中,xt为1以上的整数;

聚光条件设定步骤,作为所述激光的聚光条件,设定聚光照射来自所述空间光调制器的所述激光的所述聚光点的个数st、以及有关st个聚光点s的各个的聚光位置、聚光的所述激光的波长λx、聚光强度,其中,st为1以上的整数;

控制图案设定步骤,对于所述st个聚光点s的各个,作为相对于波长λx的所述激光赋予的相位图案,设定控制其聚光状态的聚光控制图案;

调制图案设计步骤,考虑由所述控制图案设定步骤设定的所述聚光控制图案来设计呈现于所述空间光调制器的所述调制图案,

所述调制图案设计步骤中,设想在所述空间光调制器中被二维排列的多个像素,着眼于呈现于所述多个像素的所述调制图案的一个像素中的相位值的变更给予所述聚光点上的所述激光的聚光状态的影响,以其聚光状态接近于所希望的状态的方式变更所述相位值,通过对于所述调制图案的所有像素进行这样的相位值的变更操作从而设计所述调制图案,

并且在评价所述聚光点上的所述聚光状态的时候,对于所述空间光调制器的所述调制图案中的从像素j到所述聚光点s的波长λx的光的传播,使用将由所述控制图案设定步骤设定的所述聚光控制图案φjs-pat,x的相反的相位图案加到波动传播函数φjs,x的传播函数φjs,x

φjs,x’=φjs,xjs-pat,x

2.如权利要求1所述的光调制控制方法,其特征在于:

所述照射条件取得步骤中,将所述激光的所述波长的个数xt作为多个来进行设定。

3.如权利要求2所述的光调制控制方法,其特征在于:

所述调制图案设计步骤中,考虑所述空间光调制器中的折射率的波长分散来设计所述调制图案。

4.如权利要求1~3中的任意一项所述的光调制控制方法,其特征在于:

所述调制图案设计步骤中,将向所述空间光调制器的所述像素j的波长λx的所述激光的入射振幅设为Aj-in,x,将相位设为φj-in,x,将所述像素j中的相对于波长λx的所述激光的相位值设为φj,x,由下述式

Us,x=As,xexp(iφs,x)

=ΣjAj-in,xexp(iφjs,x’)

×exp(i(φj,xj-in,x))

来求得表示所述聚光点s上的波长λx的所述激光的所述聚光状态的复振幅。

5.如权利要求1~4中的任意一项所述的光调制控制方法,其特征在于:

所述调制图案设计步骤中,在所述调制图案的所述像素j中的相位值的变更中,由基于表示所述聚光点s上的波长λx的所述激光的所述聚光状态的复振幅的相位φs,x、所述传播函数φjs,x’、所述像素j中的变更前的相位值φj,x以及所述激光的入射相位φj-in,x解析求得的值,变更所述相位值。

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