[发明专利]热电转换元件及其制造方法在审
申请号: | 201280051044.6 | 申请日: | 2012-10-18 |
公开(公告)号: | CN103890986A | 公开(公告)日: | 2014-06-25 |
发明(设计)人: | 林直之;青合利明;堀田吉则 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | H01L35/32 | 分类号: | H01L35/32;C22C12/00;C22F1/00;C22F1/16;C23C14/02;H01L35/34 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香兰;孟伟青 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 热电 转换 元件 及其 制造 方法 | ||
1.一种热电转换元件,其是在基板上层积热电转换层而成的,所述基板具有铝的多孔质阳极氧化皮膜,所述热电转换层含有无机氧化物半导体或熔点为300℃以上的元素作为主要成分且具有空隙结构。
2.如权利要求1所述的热电转换元件,其中,所述无机氧化物半导体含有铟。
3.如权利要求1所述的热电转换元件,其中,所述无机氧化物半导体为选自由n2O3、SnO2、ZnO、SrTiO3、WO3、MoO3、In2O3-SnO2、氟掺杂氧化锡、锑掺杂氧化锡、锑掺杂氧化锌、镓掺杂氧化锌、In2O3-ZnO和镓掺杂In2O3-ZnO组成的组中的物质。
4.如权利要求1所述的热电转换元件,其中,所述热电转换层含有熔点为330℃以上的元素作为主要成分。
5.如权利要求1或4所述的热电转换元件,其中,所述热电转换层含有选自由Zn4Sb3、CoSb3、MnSi1.75、Mg2Si、SiGe和FeSi2组成的组中的合金作为主要成分。
6.如权利要求1~5中任一项所述的热电转换元件,其中,所述多孔质阳极氧化皮膜的开口率满足下述数学式(I),
数学式(I)开口率=φ/P>0.5
式中,φ表示平均孔径,P表示平均孔间隔。
7.如权利要求1~6中任一项所述的热电转换元件,其中,所述多孔质阳极氧化皮膜的孔的平均孔径为60nm以上。
8.一种热电转换元件的制造方法,所述制造方法包括以下工序:在基板上将热电转换材料成膜而形成热电转换层,所述基板具有铝的多孔质阳极氧化皮膜,所述热电转换材料含有无机氧化物半导体或熔点为300℃以上的元素作为主要成分。
9.如权利要求8所述的热电转换元件的制造方法,其中,所述制造方法包括以下工序:在基板上将热电转换材料成膜而形成热电转换层,所述基板具有铝的多孔质阳极氧化皮膜,所述热电转换材料含有熔点为300℃以上的元素作为主要成分;以及对该热电转换层进行退火处理。
10.如权利要求8所述的热电转换元件的制造方法,其中,所述制造方法包括以下工序:在基板上在基板温度为150℃以上的条件下将热电转换材料成膜而形成热电转换层,所述基板具有铝的多孔质阳极氧化皮膜,所述热电转换材料含有熔点为300℃以上的元素作为主要成分。
11.如权利要求8~10中任一项所述的热电转换元件的制造方法,其中,所述制造方法包括以下工序:用草酸对铝板进行阳极氧化,得到具有所述多孔质阳极氧化皮膜的基板。
12.如权利要求8~11中任一项所述的热电转换元件的制造方法,其中,所述成膜通过气相蒸镀法进行。
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